恒功率超高壓汞燈電源控制技術(shù).pdf

1、在微電子光刻工藝中，光源的穩(wěn)定性直接影響著基片的曝光量，隨著集成電路和各類微電子元器件集成度的不斷提高，對(duì)光源的穩(wěn)定度提出了更高的要求。研制高性能的恒功率超高壓汞燈電源，可以有效提高光強(qiáng)穩(wěn)定度，實(shí)現(xiàn)曝光量的精確控制。本課題源自中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所承擔(dān)的縱向課題特種器件雙面曝光機(jī)的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)：恒功率超高壓汞燈電源的研制。 本文分析了超高壓汞燈的電氣特性以及對(duì)電源的特殊要求，提出用模擬乘法器將電壓、電流信號(hào)轉(zhuǎn)變?yōu)楣β?/p>

2、信號(hào)，通過(guò)脈寬控制(PwM)技術(shù)實(shí)現(xiàn)汞燈恒功率控制的總體方案。 進(jìn)行恒功率汞燈電源的設(shè)計(jì)，將模擬乘法器、電流滯洄比較器應(yīng)用于脈寬控制電路，實(shí)現(xiàn)了對(duì)汞燈的恒功率控制和啟動(dòng)電流的限制。 對(duì)電源系統(tǒng)進(jìn)行可靠性設(shè)計(jì)，提出了提高功率穩(wěn)定精度和系統(tǒng)可靠性的具體措施，保證了電源系統(tǒng)的功率穩(wěn)定度和可靠性。 對(duì)電源系統(tǒng)進(jìn)行測(cè)試分析，驗(yàn)證了設(shè)計(jì)思想和技術(shù)指標(biāo)；測(cè)試結(jié)果表明，技術(shù)指標(biāo)完全達(dá)到了設(shè)計(jì)要求。 本課題研制的特種器件雙