配合-均相沉淀法制備納米摻銻氧化錫的研究.pdf

1、摻銻二氧化錫（ATO）納米粉體材料，是一種N型半導體透明導電材料。由于其具有特殊的光學和電學性質(zhì)，在很多領域具有廣闊的應用前景。目前，國內(nèi)所需產(chǎn)品，主要仍然靠進口。本文對ATO納米粉體的制備工藝進行了深入的研究并取得了一定的進展。 有關制備納米ATO粉體的方法比較多，比較常用的方法有化學沉淀法、溶膠-凝膠法、水熱法、燃燒法。直接沉淀法是直接滴加沉淀劑與反應物反應得到沉淀，雖然成本較低，但是這種方法很難防止沉淀劑局部濃度過高，會造

2、成溶液中局部過飽和度過大，使得溶液中同時進行均相成核和非均相成核，造成沉淀粒度分散不均勻，生成的產(chǎn)品粒子粒徑分布較寬。均相沉淀法就是使用尿素作為沉淀劑，構晶離子的過飽和度在整個溶液中受到控制且比較均勻，所以沉淀物的顆粒均勻而致密，便于過濾、洗滌。同時針對錫和銻的不同步水解而未能達到真正意義上的摻雜的問題，采用配合劑配合的方法。 本實驗以SnCl4·5H2O和SbCl3為原料，酒石酸為配合劑，尿素為均相沉淀劑，采用配合——均相沉淀