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文檔簡(jiǎn)介
1、研究中運(yùn)用了XRD、SEM、FESEM等測(cè)試手段對(duì)基片樣品的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征,并結(jié)合了UV-Vis光譜分析、DSC/TG以及熱膨脹系數(shù)測(cè)試分析,探討了各因素對(duì)玻璃基片制備性能的影響。研究表明,選擇合適的Li2O-Al2O3-SiO2系統(tǒng)的玻璃組分,可以得到具有較好性能的光敏微晶玻璃,在合適的曝光和熱處理制度下,在曝光區(qū)域得到偏硅酸鋰微晶;UV曝光使用光掩模不同,曝光效果不同。采用濃度為5vol﹪HF酸和超聲波攪伴進(jìn)行酸刻蝕的最佳工藝條件。
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