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文檔簡(jiǎn)介
1、 本文采用直流磁控濺射技術(shù)在硅片和AZ31基體上制備了Mg-Cu-Y三元合金膜,針對(duì)其工藝參數(shù)進(jìn)行了研究。研究結(jié)果表明:工藝參數(shù)的改變對(duì)表面合金膜微觀結(jié)構(gòu)和性能的影響非常顯著,在單靶(合金靶)濺射沉積的條件下可以獲得宏觀上結(jié)構(gòu)為非晶態(tài)的表面合金膜,合金膜的成分非常接近于靶的設(shè)計(jì)成分;同時(shí),這種合金膜具有較高的硬度(約11GPa)、彈性模量(約200GPa)和表面粗糙度(Rq=3.805nm),其耐蝕性優(yōu)于其它合金膜。在其他工藝條件
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