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文檔簡介
1、目前作為鍍膜技術(shù)的重要手段之一磁控濺射技術(shù),隨著技術(shù)的不斷更新也得到了迅猛的發(fā)展。磁控濺射技術(shù)主要歷經(jīng)了直流磁控濺射、非平衡磁控濺射、射頻磁控濺射和脈沖磁控濺射四種主要發(fā)展階段。由于脈沖磁控濺射擁有高濺射效率以及工藝效果好的優(yōu)點而逐漸發(fā)展成為目前磁控濺射發(fā)展的新趨勢。而磁控濺射電源,也隨著技術(shù)的發(fā)展也不斷推陳出新。
本文在這種情況下針對大功率磁控濺射電源與工藝的需求展開研究。研究等離子負(fù)載特性與負(fù)載匹配問題;對移相全橋ZVZC
2、S變換器的工作原理進(jìn)行詳細(xì)分析,并推導(dǎo)開關(guān)管實現(xiàn)超前橋臂零電壓開通以及滯后橋臂零電流關(guān)斷的公式及其實現(xiàn)條件,對大功率電源的主電路和進(jìn)行了理論設(shè)計和參數(shù)計算。用PSPICE對電源系統(tǒng)進(jìn)行了詳細(xì)的仿真分析。通過對兩種緩沖電路的理論分析及仿真比較,分析主動箝位緩沖電路在大功率場合下要求高變換器效率下的優(yōu)越性,這樣降低了電源的功率損耗,提高了電源的效率。此外結(jié)合工藝需求在脈沖電路后級加入電感和反并聯(lián)二極管的并聯(lián)電路,這樣保證負(fù)載電流在功率管開通
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