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文檔簡介
1、本文著重圍繞氮化鎵基材料性能進行了部分研究,制備了非故意摻雜的n型GaN光導探測器件,并對該器件進行了一系列測試、分析。實驗發(fā)現(xiàn)GaN的持續(xù)光電導與照射光強有著一定的關(guān)系,變化光強會引起光電導曲線的顯著變化,并且隨著光強的增大,光電流隨之增強。當有長波參與光照時,照射光由弱逐漸變強,所測的器件會由正常的光電導(PC)和持續(xù)光電導(PPC)響應逐漸過渡到負光電導(NPC)和負持續(xù)光電導(NPPC),并且光強越強,該現(xiàn)象就越明顯。分析認為,
2、該現(xiàn)象是由于GaN作為一種直接寬帶隙材料,其禁帶中的電子陷阱與空穴陷阱對光生載流子俘獲和復合競爭的結(jié)果。 另外,利用對材料透射率面分布來評價材料均勻性的原理,自主研制了一套紫外薄膜材料均勻性測試系統(tǒng)。該系統(tǒng)由氙燈、單色儀、外光路、二維步進掃描裝置、光電探測器、數(shù)據(jù)采集和記錄設備等部分組成,采用LabVIEW軟件編程,可以實現(xiàn)對材料的無損傷測試,并對材料的非均勻性給出定量的評價。利用均勻性測試系統(tǒng)對不同結(jié)構(gòu)和不同生長條件的GaN基
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