TiNi基合金薄膜的組織結(jié)構(gòu)與光學(xué)反射率.pdf

1、本文采用不同的熱處理工藝分別對(duì)Ti54.5Ni45.5、Ti51.2Ni48.8和Ti44.5Ni46.9Gd8.6薄膜進(jìn)行晶化退火，利用X射線衍射儀（XRD），原子力顯微鏡（AFM）、分光光度計(jì)系統(tǒng)地研究薄膜織結(jié)構(gòu)、表面形貌及光學(xué)反射率。
　　研究表明，經(jīng)不同的熱處理工藝晶化退火后，三種薄膜室溫下均為馬氏體相，Ti54.5Ni45.5薄膜中析出相主要為T(mén)i2Ni，Ti51.2Ni48.8薄膜中無(wú)析出相，Ti44.5Ni46.9G

2、d8.6薄膜中主要為Ni3Ti和GdNi兩種析出相；薄膜晶粒隨退火溫度升高和保溫時(shí)間的延長(zhǎng)逐漸長(zhǎng)大，晶粒尺寸在10-30nm之間。
　　熱處理工藝對(duì)薄膜表面形貌有明顯影響，隨著退火溫度的升高，柱狀顆粒逐漸長(zhǎng)大，薄膜表面均方根粗糙度增加；隨著保溫時(shí)間延長(zhǎng)，表面顆粒的生長(zhǎng)方式有所改變，Ti51.2Ni48.8薄膜短時(shí)間晶化退火呈現(xiàn)柱狀顆粒，并逐漸向島狀過(guò)渡，最終形成島狀顆粒，Ti54.5Ni45.5薄膜中柱狀顆粒先長(zhǎng)大后減小，呈現(xiàn)峰值

3、效應(yīng)，Ti44.5Ni46.9Gd8.6薄膜在大于2min晶化退火處理后則全部為島狀形貌，說(shuō)明Gd加入有明顯影響。
　　薄膜反射率光譜測(cè)試結(jié)果表明，室溫下反射率隨光源波長(zhǎng)的增加先降低而后升高，在藍(lán)光波段獲得最小值；馬氏體取向?qū)Ρ∧ぴ诓煌ㄩL(zhǎng)下反射率有顯著影響。奧氏體態(tài)薄膜反射率隨著光源波長(zhǎng)的增加先升高后降低，然后繼續(xù)增大。Ti51.2Ni48.8薄膜600℃退火1h時(shí)在紅光波段有最大的反射率差，約為27％，退火10h在藍(lán)光波段有最