半導(dǎo)體材料低溫?zé)o磨料超光滑表面拋光分析的研究.pdf_第1頁
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文檔簡(jiǎn)介

1、本文結(jié)合國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目“埃及超光滑表面低溫?zé)o磨料拋光的理論與實(shí)驗(yàn)研究”，對(duì)低溫?zé)o磨料拋光加工方法進(jìn)行了較為系統(tǒng)的研究。 本文介紹了實(shí)現(xiàn)低溫?zé)o磨料拋光的實(shí)驗(yàn)裝置及冰盤、工件盤的制備過程，闡述了該加工方法的加工工藝和加工后工件的清洗與測(cè)量，用不同的水質(zhì)、壓頭壓力，冰盤轉(zhuǎn)速、工件盤偏心及拋光時(shí)間對(duì)半導(dǎo)體材料進(jìn)行了拋光試驗(yàn)，研究在此條件下，對(duì)拋光結(jié)果的影響規(guī)律，得出拋光所需的最佳加工參數(shù)，并且在微觀的原子、分子尺度上，運(yùn)用表面、界

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