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1、該文首先對(duì)國內(nèi)外電致變色薄膜和稀土系薄膜的研究進(jìn)展進(jìn)行了評(píng)述.在此基礎(chǔ)上,著重研究了用直流磁控濺射技術(shù),在真空中,在玻璃、ITO玻璃和Si片等基體上濺射富鑭、富鈰、La和Y薄膜的可能.分析了稀土系薄膜在低真空條件下制備失效的原因,并對(duì)制備的稀土薄膜在批復(fù)充放氫過程中結(jié)構(gòu)、電化學(xué)性能和光學(xué)性能變化進(jìn)行了研究.通過反復(fù)研究,研究了在實(shí)驗(yàn)中采用的磁控濺射系統(tǒng)中制備稀土系薄膜的最佳工藝參數(shù),發(fā)現(xiàn)襯底溫度150℃,濺射氬氣的氣壓為4.5×10<'
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