復合摻雜半導體可見光催化劑的制備及其光催化性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文研究了復合摻雜半導體可見光催化劑的制備及其光催化制氫性能，主要分為兩個部分： 一、復合半導體催化劑CdS-SiO<,2>的制備及其光催化性能研究。以CdSO<,4>為鎘源、Na<,2>S為硫源，采用直接沉淀法制得了CdS納米粒子，光還原沉積法對CdS晶體表面進行載Pt，用氨水催化分解正硅酸乙酯制備Pt-CdS-SiO<,2>光催化劑。借助X射線衍射(XRD)、比表面積測試(BET)、熒光光譜(PL)、紫外-可見漫反射(UV-

2、Vis)等對催化劑進行表征，用電化學法測定CdS的光腐蝕度，以甲酸水溶液的可見光催化制氫反應為探針，評價催化劑活性。結果表明，SiO<,2>的復合有效地抑制了CdS光催化過程中發(fā)生光腐蝕和粒子團聚，促使光生電子和空穴分離，從而使CdS的可見光制氫活性大大提高。 二、La摻雜復合半導體光催化劑CdS/La<'3+>-TiO<,2>的制備及其可見光分解水制氫性能研究。采用直接沉淀法制得了CdS納米粒子，經(jīng)溶膠-凝膠法得到CdS/La

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