紅外連續(xù)波激光輻照下光學(xué)薄膜元件的熱吸收特性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文采用表面熱透鏡技術(shù)，對3.8μm激光和2.8μm激光輻照下鍍制在Si基底上的單層ZnS、YbF3、YBC薄膜，不同膜系的YbF3/ZnS多層分光膜和多層高反膜，以及鍍制在CaF2基底上的增透膜進(jìn)行了吸收測量，并對3.8μm激光和2.8μm激光的測量結(jié)果進(jìn)行了比較分析。此外，還對3.8μm激光輻照下，光學(xué)薄膜元件的溫度場和熱應(yīng)力進(jìn)行了定量分析。論文的主要工作包括： 1.建立了光學(xué)薄膜溫度場的基本理論，利用交替隱型技術(shù)，對3.8μm

2、 DF激光輻照下高反射薄膜的溫度場分布進(jìn)行了數(shù)值模擬和理論分析。 2.基于熱傳導(dǎo)方程與熱彈方程，采用有限元分析法，利用MSC.Marc有限元分析軟件建立了激光輻照下光學(xué)薄膜基底的溫度場與熱應(yīng)力的三維模型，研究了光學(xué)薄膜基底在高斯光束和環(huán)狀高斯光束輻照下的溫度場與熱應(yīng)力分布。 3.建立了表面熱透鏡技術(shù)測量光學(xué)薄膜微弱吸收的實驗裝置，分別在3.8μm激光和2.8μm激光輻照下，對多種光學(xué)薄膜樣品的微弱吸收進(jìn)行了測量，并對3.8μm激

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