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文檔簡介
1、隨著我國工業(yè)化步伐的不斷加快，氟化鎂晶體在光學陶瓷及玻璃、紅外元件等高技術領域得到了廣泛的應用。氟化鎂晶體的光學性能主要依賴于它的表面質量，只有晶體表面達到超光滑表面粗糙度時才能滿足它在生產(chǎn)上的需要?；瘜W機械拋光技術(CMP)在目前的加工工藝中使用較為廣泛，它是實現(xiàn)超光滑表面拋光的工藝過程，是化學拋光和機械拋光技術的結合。在本文中，我們將利用這一技術來對MgF2晶體進行拋光，主要討論了在化學機械拋光過程中不同拋光液對拋光件質量的影響，并
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