2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩146頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、山東大學(xué)博士學(xué)位論文有機(jī)襯底透明導(dǎo)電膜的制備與特性研究姓名:郝曉濤申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:博士專業(yè):凝聚態(tài)物理指導(dǎo)教師:馬洪磊馬瑾2002.4.22第三章描述了課題選取的原因,并且對(duì)實(shí)驗(yàn)設(shè)備以及測(cè)試手段進(jìn)行了介紹。第四章中,采用射頻磁控濺射法在有機(jī)薄膜襯底上制備出ZnO:Al透明導(dǎo)電膜。在陶瓷靶中A1203的摻雜比例為3wt%濺射功率為100W氫分壓為Pa條件下,制備出最佳性能的ZnO:Al薄膜。文中詳細(xì)研究了襯底材料、襯底溫度、薄膜厚度和襯底偏

2、壓對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)和光電性質(zhì)的影響。濺射制備的ZnO:Al薄膜為多晶薄膜,具有六角纖鋅礦結(jié)構(gòu)和(002)方向的擇優(yōu)取向。在25180C襯底溫度范圍內(nèi),PI襯底ZnO:Al薄膜的平均晶粒尺寸約為1737nm、密度為4.585.16眺m3。有機(jī)襯底ZnO:Al透明導(dǎo)電膜的電阻率隨襯底溫度的升高而減小,到1500C時(shí)達(dá)到最小值8.5x10Q.cm,薄膜的透射率達(dá)到了72%當(dāng)襯底溫度超過(guò)1500C后,因?yàn)橛袡C(jī)襯底中有害雜質(zhì)逸出影響了薄膜的結(jié)構(gòu),薄膜

3、的電阻率隨著襯底溫度的增加而迅速增大。襯底溫度為1500C時(shí),在相同條件下玻璃襯底上的薄膜電阻率為8.2x1040cm,透過(guò)率達(dá)到85%.室溫下制備的PPA襯底ZnO:Al薄膜,在厚度為40.400nm的范圍內(nèi),薄膜平均晶粒尺寸為1638nm、密度為2.14.6留cm。當(dāng)薄膜的厚度小于150mn時(shí),電阻率隨著薄膜厚度增加而下降當(dāng)薄膜的厚度大于150nm時(shí),薄膜的電阻率緩慢下降,逐漸趨于穩(wěn)定值一2.5x103n.CM。有機(jī)薄膜PPA襯底Z

4、nO:Al薄膜在可見(jiàn)光區(qū)的平均透過(guò)率達(dá)到了80%以上。由于厚度效應(yīng)的影響,薄膜厚度的增加使得透過(guò)率略有下降,而對(duì)于厚度小的薄膜,其光學(xué)帶隙隨著薄膜厚度的降低而略有增大.當(dāng)薄膜厚度由400nm減少到130nm時(shí),薄膜的光學(xué)帶隙變化范圍是3.493.6eV,大于體材料純ZnO(3.3eV)歸因于小晶粒尺寸的影響。通過(guò)對(duì)襯底施加負(fù)偏壓可以吸引等離子體中的陽(yáng)離子不斷的轟擊正在生長(zhǎng)的薄膜,這種轟擊作用給淀積到襯底上的靶材粒子一個(gè)附加的能量,相當(dāng)癮

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論