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文檔簡介
1、該論文采用脈沖激光沉積(PLD)法,重點研究了兩種過渡金屬氧化物薄膜電極材料的制備及其電化學性能.一種是作為陰極材料的由NiO與V<,2>O<,5>組成的復(fù)合氧化物薄膜;另一種是作為陽極材料的基于氧化鐵的薄膜,包括Fe<,2>O<,3>薄膜和NiFe<,2>O<,4>薄膜.1、NiO-V<,2>O<,5>復(fù)合氧化物薄膜及其電化學性能的研究.結(jié)果表明在第一次嵌鋰過程中存在一步不可逆的電極反應(yīng),可能對應(yīng)于NiO被還原為金屬Ni的反應(yīng).復(fù)合薄
2、膜電化學性能的改善可能與NiO的加入引起薄膜結(jié)構(gòu)和表面形貌的轉(zhuǎn)變以及電化學反應(yīng)過程中NiO被還原為金屬Ni并分散在V<,2>O<,5>基質(zhì)中有關(guān).2.基于氧化鐵的薄膜及其電化學性能的研究.對PLD法制備氧化鐵薄膜的沉積條件,包括沉積溫度、環(huán)境氣氛和靶材料等,對薄膜性能的影響進行了研究.結(jié)果表明,在14Pa O<,2>氣氛中,在溫度為400℃的不銹鋼基片上沉積的氧化鐵薄膜電化學性能較好,靶材料為金屬鐵粉時經(jīng)反應(yīng)性脈沖激光沉積所得的薄膜性能
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