硅基薄膜材料組份激光微區(qū)光譜分析法與應用研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、硅基薄膜的組份對其性能具有重要影響，對其組份的檢測一直是國內(nèi)外科研工作者比較關心的問題。本文采用YJG-Ⅱ激光微區(qū)分析儀、組合式多功能光柵光譜儀、CCD數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)構成的激光微等離子體光譜分析系統(tǒng)，以亞微米硅基薄膜為樣品，研究了激光微區(qū)光譜分析法及其在硅基薄膜材料組份定量分析中的應用。
　　 探究了提高薄膜材料激光微等離子體光譜強度的方法，通過對硅基薄膜表面覆蓋碳層，克服了材料表面高亮度對激光能量的反射，增加激光能量與薄膜的

2、熱耦合效率，有效降低了光譜分析檢出限，拓寬分析范圍。結果表明：當涂層厚度為15μm左右時，激光等離子體的輻射強度明顯提高。同時驗證了最佳的實驗條件：輔助電極高度1.5mm，輔助電極間距1mm。
　　 采用鑭鍶鈷氧薄膜和鋯鈦酸鉛薄膜為樣品，分別以CoI399.53nm、SrI407.71nm、LaII392.15nm為分析線和TiⅡ336.12nm、ZrⅡ343.82nm、PbI368.35nm為分析線，對所提出的測量薄膜元素比率

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