終端光學(xué)組件潔凈清洗工藝及檢測(cè)技術(shù)研究.pdf

1、終端光學(xué)組件作為慣性約束核聚變整個(gè)激光裝置中的最后環(huán)節(jié),其對(duì)整個(gè)裝置的通光質(zhì)量和打靶精度都有著重要的影響。但隨著下階段ICF裝置能量的提高,整個(gè)組件內(nèi)部所涉及的潔凈環(huán)境問(wèn)題則逐漸顯現(xiàn)出來(lái);隨著裝置規(guī)模的增大,組件內(nèi)部在強(qiáng)激光照射下產(chǎn)生的氣溶膠問(wèn)題嚴(yán)重影響著裝置的通光質(zhì)量和強(qiáng)度,制約著激打靶的連續(xù)性、穩(wěn)定性和安全性。因而就需要從機(jī)理上探究氣溶膠的產(chǎn)生,這也是解決組件內(nèi)部潔凈環(huán)境問(wèn)題的關(guān)鍵,而圍繞著終端光學(xué)組件的潔凈清洗工藝的研究,就是從根

2、源上探究氣溶膠來(lái)源的一個(gè)重要思路。
　　首先,本文對(duì)終端光學(xué)組件目前采用的清洗工藝的相關(guān)原理進(jìn)行了闡述,同時(shí)對(duì)分子動(dòng)力學(xué)的相關(guān)內(nèi)容進(jìn)行了介紹,并在此基礎(chǔ)上確定了后續(xù)仿真模擬中將要采用的積分算法、系綜和溫度控制策略等問(wèn)題
　　其次,針對(duì)于工件表面潔凈度檢測(cè)中應(yīng)用比較廣泛的的水膜破裂法進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)研究,主要對(duì)室內(nèi)潔凈環(huán)境等級(jí)、烘干工藝及烘干溫度、酸洗工藝等可能會(huì)影響工件表面水膜成形能力等的因素進(jìn)行了對(duì)比實(shí)驗(yàn)研究。
　　第三,