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文檔簡介
1、本論文研究 TiN硬質(zhì)薄膜的主要性能和氧化機(jī)理。采用我校自行研發(fā)的XH-830型熱陰極電弧磁控離子鍍膜機(jī)在牌號(hào)為ZK1型硬質(zhì)合金表面沉積TiN薄膜444試樣分別進(jìn)行一個(gè)小時(shí)的氧化處理。利用金相顯微鏡(OM)、掃描電鏡(SEM)、X射線衍射(XRD)、X光電子能譜(XPS),顯微硬度儀和劃痕儀對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)、成份和性能進(jìn)行分析。 金相和SEM觀察表明,薄膜平均厚度約5μm,表面是典型的小島狀組織,整個(gè)薄膜致密,無缺陷,與基體結(jié)合緊密
2、,柱狀晶結(jié)構(gòu)明顯。表層晶粒隨氧化溫度升高而長大。650℃時(shí)出現(xiàn)薄膜脫落現(xiàn)象。 XRD分析表明,TiN硬質(zhì)薄膜的生長具有明顯地(Ⅲ)晶面取向,晶體取向百分比平均達(dá)80%。在550℃,薄膜開始有TiO2產(chǎn)生,隨著溫度升高TiO2生成量大幅增加。XPS分析表明,TiN與O2反應(yīng)后生成TiNxOy、TiO2和TiO0.73,隨著氧化溫度的升高,TiO2和TiO0.73含量增多,TiNxOy含量減少,TiN的特征峰消失。晶體學(xué)和熱力學(xué)分
3、析表明,Ti與O原子易結(jié)合,當(dāng)O原子進(jìn)入TiN晶胞時(shí),只需少量激活能就可轉(zhuǎn)變?yōu)榻鸺t石結(jié)構(gòu)的TiO2,當(dāng)氧含量不足時(shí)形成TiNxOy;整個(gè)薄膜由復(fù)雜的氧化物構(gòu)成,N原子以N-O鍵的形式存在薄膜當(dāng)中,少數(shù)以N2形式存在。 顯微硬度和劃痕測試分析表明,TiN硬質(zhì)薄膜的顯微硬度平均達(dá)2388HV、結(jié)合力最大能達(dá)85N。隨著氧化溫度的升高,TiO2含量的增加,薄膜的硬度和結(jié)合力都呈拋物線下降。TiO2在高溫時(shí),形成速度快、硬度低、致密度差
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