高硅鋁合金-磷鉬酸電解液陽極氧化的研究.pdf

1、在大氣中鋁及鋁合金表面與氧作用能形成一層氧化膜（0.01μm～0.05μm），這層自然氧化膜雖然能阻止大氣腐蝕，但氧化膜為非晶態(tài)、不均勻、不連續(xù)的膜層，不能作為可靠的防護(hù)、裝飾性膜層。通常采取陽極氧化法在鋁及鋁合金表面形成Al2O3鈍化層，陽極氧化膜層比自然氧化膜厚得多，表面為多孔結(jié)構(gòu)，有利于表面的著色處理并提高涂層的結(jié)合力，提高表面的硬度、耐腐蝕性;氧化膜的制得有多種方法，目前國內(nèi)外應(yīng)用最多的是硫酸直流陽極氧化，它與其他酸陽極氧化相比

2、，在生產(chǎn)成本、氧化膜特點(diǎn)和性能方面具有明顯優(yōu)越性。
　　本課題研究含硅量高達(dá)13％～15％的高硅鋁合金在磷鉬酸電解液中的陽極氧化，采用正交實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)研究直流陽極氧化工藝因素對(duì)氧化膜的影響，以均勻性、顏色、耐堿性為指標(biāo)對(duì)膜層進(jìn)行性能表征，并對(duì)氧化膜的耐腐蝕性能進(jìn)行研究。陽極氧化的最佳工藝條件為:磷鉬酸濃度250 g/L，氧化時(shí)間30 min，丙三醇濃度8g/L，氧化溫度25℃，氧化電壓110V。
　　采用掃描電子顯微鏡（Scan

3、ning electron microscope，SEM）、X射線能量色散譜（Energy dispersive X-ray spectroscopy，EDS）、X射線衍射(X-ray diffraction，XRD)等方法對(duì)氧化膜的微觀形貌和成分進(jìn)行了分析和對(duì)比。結(jié)果表明:氧化膜表面致密均勻，具有較強(qiáng)耐堿性，氧化膜主要由Al2O3組成，氧化膜厚度約在2μm左右。用金相砂紙來回摩擦氧化膜層未出現(xiàn)掉色現(xiàn)象，結(jié)果表明氧化膜的耐磨性很好;運(yùn)用