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文檔簡介
1、納米氧化銦錫[In2O3(SnO2)]是一種N型半導(dǎo)體材料，以其良好的電導(dǎo)、透光性能而成為電子行業(yè)顯示器、顯像管防靜電、防輻射、防眩目的熱點材料。傳統(tǒng)的制備ITO膜方法是真空濺射法，但該方法所需設(shè)備復(fù)雜，工序多，成本高，而ITO粉體為基的涂膜技術(shù)為下一代的印刷電路、導(dǎo)電薄膜制備提供了新的思路。因此，如何制備ITO納米懸浮液及保持其穩(wěn)定性成為應(yīng)用過程中研究重點。
本文采用物理和化學改性的方法，分別用陰離子表面活性劑、陽離子表面活
2、性劑、非離子表面活性劑、高分子表面活性劑和硅烷偶聯(lián)劑對銦錫氧化物進行表面修飾以改進其懸浮液的穩(wěn)定性;采用紅外光譜(IR)、X射線電子能譜(XPS)、透射電鏡(TEM)和分散性實驗等手段對表面改性后的納米銦錫氧化物進行分析表征，并且試驗了不同用量的表面活性劑對ITO納米懸浮液穩(wěn)定性的影響，3％-4％的用量可以達到最佳的分散效果;對試驗條件進行優(yōu)化，在最佳條件下成功地制備了能穩(wěn)定存在的ITO納米懸浮液。
對表面修飾后的ITO納米懸
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