版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、Ni-P合金鍍層的制備主要有電鍍和化學鍍兩種方法,電鍍技術因具有化學鍍技術不能比擬的眾多優(yōu)點而被廣泛應用。電噴鍍技術是在傳統(tǒng)電鍍技術基礎之上發(fā)展起來的一種快速電沉積工藝,具有沉積速度快,鍍層表面質量好等優(yōu)點。本文在自行研制的數(shù)控電噴鍍機床上對Ni-P合金鍍層進行相關工藝試驗,并對鍍層性能進行檢測。
首先,介紹了電噴鍍金屬沉積基本理論,分析了提高極限電流密度的基本方法。在基本理論知識基礎之上,分別采用FLUENT軟件和ANSYS
2、軟件對電噴鍍加工區(qū)域流場和電場進行仿真分析。FLUENT單相流模型和多相流模型對比分析,確定最終陽極噴嘴設計結構,最后分析鍍液流速以及兩極間隙對流場的影響。ANSYS軟件分析靜態(tài)下陰極工件表面電流密度分布,研究不同電壓以及不同間隙對電流密度分布影響,在此基礎之上,結合金屬沉積理論,模擬電壓為22V,加工間隙為1.0mm時鍍層的生長情況。
其次,在自行研制的數(shù)控電噴鍍機床上采用響應曲面法安排Ni-P合金工藝試驗,研究電壓、鍍液溫
3、度、兩極間隙以及相對運動速度對鍍層沉積速度、表面粗糙度、表面硬度的影響,建立回歸方程并優(yōu)選出三組最優(yōu)工藝組合。最后,轉化為多響應問題,得到能同時使鍍層沉積速度、表面粗糙度、表面硬度之間保持相對平衡且整體達到最優(yōu)的工藝參數(shù)組合為:電壓21V,鍍液溫度64℃,兩極間隙0.8mm,相對運動速度:395mm·min-1。此種工藝條件下,測得鍍層平均沉積速度為60.68μ m/min,平均表面粗糙度為0.315μm,平均硬度為714.79HV。對
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 黃銅基體化學鍍Ni-P合金工藝優(yōu)化研究.pdf
- pvc塑料低溫堿性化學鍍ni-p合金工藝
- 6061鋁合金表面化學鍍Ni-P合金工藝研究.pdf
- Al2O3陶瓷表面化學鍍Ni及Ni-P合金工藝研究.pdf
- TC4鈦合金電鍍Ni-P鍍層工藝及性能研究.pdf
- 在鋁硅合金上化學沉積Ni-P、Ni-Cu-P的工藝及性能研究.pdf
- 稀土對Ni-P合金梯度鍍層工藝及耐蝕性能的影響.pdf
- 化學鍍Ni-P合金和化學復合鍍Ni-P-納米SiC工藝及性能研究.pdf
- 化學鍍Ni-Zn-P合金工藝及鍍層性能研究.pdf
- NdFeB永磁體表面電沉積Ni-P合金工藝及相關理論研究.pdf
- 預處理SiC粒子增強Ni-P合金化學復合鍍工藝及性能研究.pdf
- 適用于海洋環(huán)境的化學鍍Ni-P合金工藝及耐蝕機理研究.pdf
- 鎂合金表面化學鍍Ni-P非晶合金的工藝及性能研究.pdf
- 化學鍍Ni-P合金和復合鍍Ni-P-納米TiO-,2-工藝及性能研究.pdf
- 銅、黃銅基體化學鍍Ni-P合金及Ni-Cu-P合金的研究.pdf
- 鋯鋁合金化學鍍Ni-P鍍層工藝研究.pdf
- 鎂合金表面Ni-P梯度鍍層工藝及耐蝕性研究.pdf
- 化學鍍Ni-P、Ni-W(Mo)-P納米晶鍍層的工藝及性能研究.pdf
- 高磷酸性化學鍍Ni-P合金的工藝研究.pdf
- Ni-P梯度鍍層及Ni-P-SiC梯度復合鍍層性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論