2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩89頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、鋯合金作為核工業(yè)領(lǐng)域中一種重要的結(jié)構(gòu)材料,其腐蝕與防護(hù)問題具有重要的研究意義,本論文首先具體研究了Cu2+離子對Zr-4合金的腐蝕行為的影響,并探討了Cu2+引起鋯合金產(chǎn)生孔蝕的原因。然后,通過直流、脈沖電流等不同的技術(shù),對Zr-4合金和Zr-2合金的等離子電解氧化技術(shù)進(jìn)行了深入的研究,探討了不同的工藝參數(shù)對鋯合金等離子電解氧化膜的微觀結(jié)構(gòu)、相組成及耐腐蝕性能的影響。
  研究發(fā)現(xiàn),Cu2+能使Zr-4合金的自腐蝕電位正移,自腐蝕

2、電流密度增加,而Zr-4合金的抗孔蝕能力下降是Cu2+和Cl-共同作用的結(jié)果。等離子電解氧化處理能夠大幅度提高Zr-4合金的抗孔蝕能力。
  采用直流電源,恒電流密度為200mA/cm2時(shí),分別研究了Zr-4合金在Na2SiO3+KOH、Na2SiO3+Na3PO4+KOH、Na2SiO3+Na4P2O7、Na4P2O7+KOH電解液體系中等離子電解氧化行為,分析了電解液組分對鋯合金等離子電解氧化膜的相組成的影響。結(jié)果表明:Zr-

3、4合金耐蝕性的提高依賴于制備高質(zhì)量的等離子電解氧化膜。直流條件下,Na2SiO3+Na4P2O7和Na4P2O7+KOH體系制備的膜層均勻,具有更好的抗蝕性。
  采用脈沖電流制度,在硅酸鹽電解液體系,采用恒電流方法,通過改變氧化時(shí)間、脈沖頻率、正占空比,負(fù)占空比,對Zr-2合金進(jìn)行等離子電解氧化處理,制備不同性能的氧化膜。通過極化曲線測試分析膜層的耐蝕性能。結(jié)果表明,Zr-2合金在脈沖頻率1000Hz、正占空比20%、負(fù)占空比2

4、0%,氧化時(shí)間10min時(shí),所得膜層的耐蝕性最好。通過對硅酸鹽體系鋯合金火花放電特征的研究,并從ZrO2極低的熱導(dǎo)率入手,進(jìn)一步探討了鋯合金硅酸鹽體系等離子電解氧化膜的一種特殊結(jié)構(gòu)--特征凝固結(jié)構(gòu)的形成原因。
  在脈沖電流模式下,以含NaAlO2的溶液為電解液,在Zr-2合金表面制備等離子電解氧化膜,分析了該電解液體系下膜層的形貌、相組成以及耐蝕性。研究結(jié)果表明:在該體系,膜層厚度達(dá)到極限值后不再增厚,這與合金表面局部反復(fù)出現(xiàn)的

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論