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文檔簡介
1、硫化鋅(ZnS)等光學(xué)窗口材料是紅外探測與成像技術(shù)的先導(dǎo)。硫化鋅表面抗反射亞波長結(jié)構(gòu),是指借鑒生物仿生的概念,在ZnS表面制備出尺寸與入射光波長相當或更小的亞波長仿蛾眼精細圖案。與傳統(tǒng)的表面增透薄膜相比,亞波長微結(jié)構(gòu)對高溫等惡劣環(huán)境下紅外探測的寬波段抗反射增透有獨特的優(yōu)勢。本課題首先利用光學(xué)衍射原理,采用Rsoft軟件仿真計算設(shè)計合適的ZnS表面仿生抗反射亞波長結(jié)構(gòu);在此基礎(chǔ)上,在ZnS表面制備Ni納米顆粒陣列掩膜,再以Cl2和Ar氣作
2、為刻蝕氣體,采用感應(yīng)耦合等離子體刻蝕(ICP)進行刻蝕從而制備抗反射亞波長結(jié)構(gòu)。最后,采用原子層沉積(ALD)法,在ZnS亞波長結(jié)構(gòu)表面制備高硬度的HfO2保護膜,以期同時提高硫化鋅的光學(xué)和力學(xué)性能。主要采用掃描電子顯微術(shù)和原子力顯微術(shù)表征Ni掩膜及ZnS表面亞波長結(jié)構(gòu)形貌;采用紅外透射光譜和納米硬度儀分析表征其增透及其保護效果。
采用Rsoft軟件模擬亞波長結(jié)構(gòu)的周期、占位比和高度對硫化鋅透過率的影響,模擬結(jié)果表明:當亞波長
3、結(jié)構(gòu)的周期小于4μm,高度為2μm,占位比為0.6時,其遠紅外波段(8~12μm)透過率高于98%。模擬結(jié)果與理論計算相對吻合。
通過在ZnS表面制備鎳膜退火形成鎳點(Ni)陣來作為掩膜,系統(tǒng)地研究了中間層厚度,鎳膜厚度,退火溫度及保溫時間對鎳點掩膜形成的形貌的影響。實驗結(jié)果表明:鍍制硅膜作為中間層,退火后更容易形成鎳陣點;而鎳點顆粒大小在一定范圍內(nèi)與鎳膜厚度,退火溫度及保溫時間成正比。
采用電感耦合等離子體刻蝕(I
4、CP)制備硫化鋅表面亞波長結(jié)構(gòu),研究RF射頻功率,氣體比例以及工作氣壓對制備亞波長結(jié)構(gòu)高度的影響。發(fā)現(xiàn)亞波長高度隨RF射頻功率和工作氣壓變化規(guī)律都是先增大后減小,而加入BCl3不利于亞波長結(jié)構(gòu)高度的增大,使用最佳刻蝕工藝參數(shù)可以制備出高度較大的亞波長結(jié)構(gòu)。
采用原子層沉積(ALD)在亞波長結(jié)構(gòu)表面制備氧化鉿(HfO2)保護膜,對硫化鋅表面HfO2保護膜進行納米硬度測試以及對硫化鋅表面亞波長結(jié)構(gòu)進行紅外透過率測試和潤濕角測試,結(jié)
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