TaAlN-Ag-TaAlN低輻射薄膜的制備及性能研究.pdf

1、低輻射玻璃具有很高的遠紅外反射率和可見光透過率，既能滿足室內(nèi)的采光度又能有很好的節(jié)能效果。隨著低輻射玻璃在建筑物中的廣泛應用以及對低輻射薄膜的深入研究，低輻射薄膜的穩(wěn)定性逐漸成為目前的研究熱點。從成本和性能方面考慮，目前使用的離線低輻射薄膜多為銀基低輻射膜，但是銀膜不耐磨、不耐化學腐蝕、熱穩(wěn)定性差、耐濕性差。因此，選擇合適的保護層，有效保護銀膜，提高薄膜附著力，提高低輻射玻璃的使用壽命，顯得尤為重要。TaAlN薄膜具有良好的機械性能和優(yōu)

2、異的化學穩(wěn)定性，并且制備過程中Ag層不會氧化，是保護層的理想材料。
　　本實驗以銀靶、鉭靶和鋁靶為靶材，N2為反應氣體，室溫下采用射頻磁控濺射法在玻璃基片上沉積薄膜。運用紫外可見分光光度計（UV-VIS）、表面輪廓儀、傅里葉紅外光譜儀（FTIR）、X射線衍射（XRD）、場發(fā)射掃描電鏡（SEM）、等儀器對薄膜的各項性能進行檢測分析。
　　實驗制備了TaAlN薄膜，研究了Ta靶濺射功率、Al靶濺射功率、N2流量和濺射時間等工藝參

3、數(shù)對其光學性能的影響，并對其遠紅外輻射率以及微觀結(jié)構(gòu)和表面成分進行了研究。將TaAlN薄膜用作低輻射薄膜的介質(zhì)層，設計了TaAlN/Ag/TaAlN復合薄膜，研究制備工藝參數(shù)對復合膜光學性能以及耐腐蝕性的影響，并對其復合膜的結(jié)構(gòu)和成分進行了研究。
　　研究表明：TaAlN具有優(yōu)異的光學性能，Ta濺射功率為110W，Al濺射功率為100W, N2流量5sccm，濺射時間為120min條件下制備的TaAlN薄膜在波長550nm處的可見