2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩61頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、分子印跡技術(shù)是制備對特定分子具有專一識別性能的高分子合成技術(shù)。傳統(tǒng)方法合成的印跡聚合物存在著諸如形狀大小不均勻、印跡效率低以及由模板分子包埋過深過緊造成的不易洗脫,模板分子“泄漏”等問題。本研究利用表面引發(fā)可逆加成-斷裂鏈轉(zhuǎn)移自由基聚合(RAFT)的可控性與分子印跡技術(shù)相結(jié)合,分別制備了核殼結(jié)構(gòu)的球形硅膠/印跡聚合物復(fù)合微球(Silica-MIP)和四氧化三鐵/二氧化硅/印跡聚合物磁性復(fù)合微球(Fe3O4@SiO2-MIP),并將其應(yīng)用

2、于水處理過程。
  以2,4-二氯苯酚為模板分子,甲基丙烯酰胺為功能單體,二乙烯基苯為交聯(lián)劑,二硫代苯甲酸酯基團進行表面修飾的球形硅膠為鏈轉(zhuǎn)移試劑,通過RAFT技術(shù)制備了核殼結(jié)構(gòu)的 Silica-MIP微球。利用掃描電鏡、紅外光譜儀、氮氣吸附儀和 EDS能譜儀等對 Silica-MIP微球進行了表征。測試結(jié)果顯示:在球形硅膠的表面合成了一層厚度均勻的納米級分子印跡聚合物,聚合物層的平均厚度約為1.67nm。吸附性能研究表明:Sil

3、ica-MIP對2,4-二氯苯酚有良好的吸附性、選擇性和重復(fù)利用性。
  采用水熱法制備了四氧化三鐵磁性微球,用溶膠-凝膠法在其表面包覆二氧化硅層,得到四氧化三鐵/二氧化硅微球(Fe3O4@SiO2)。以2,4-二氯苯酚為模板分子,甲基丙烯酰胺為功能單體,二乙烯基苯為交聯(lián)劑,二硫代苯甲酸酯基團表面修飾的Fe3O4@SiO2為鏈轉(zhuǎn)移試劑,通過RAFT技術(shù)制備了核殼結(jié)構(gòu)的Fe3O4@SiO2-MIP微球。利用掃描電鏡、透射電鏡、振動樣

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論