紫外消毒致耐藥基因水平轉(zhuǎn)移規(guī)律和影響因素的研究.pdf

1、大量研究顯示現(xiàn)在的消毒技術(shù)不僅不能除去ARGs和ARB，反而會使水中ARGs和ARB比例增加。但ARGs發(fā)生水平轉(zhuǎn)移和傳播的原因，卻未見研究報道。所以，本課題的目的是研究UV消毒對耐藥菌和耐藥基因（質(zhì)粒）的滅活規(guī)律，以及消毒過程中損傷菌的形成規(guī)律；探討UV消毒損傷菌的性質(zhì)；明確游離質(zhì)粒轉(zhuǎn)化消毒損傷菌的形成條件和影響因素，為進(jìn)一步提出一種有效控制ARGs水平轉(zhuǎn)移和傳播的消毒新工藝提供科學(xué)依據(jù)和技術(shù)支撐。研究內(nèi)容如下：
　　1.以E.

2、coli25922(RP4)為研究對象，觀察UV消毒對其滅活及損傷菌形成的規(guī)律,對消毒釋放耐藥質(zhì)粒轉(zhuǎn)化活性，耐藥基因轉(zhuǎn)座子及耐藥基因的影響，還對5種耐藥菌的UV消毒抗性進(jìn)行了比較。UV消毒對E.coli25922(RP4)作用的先后順序為：耐藥菌損傷>耐藥菌滅活>耐藥質(zhì)粒滅活>耐藥基因的轉(zhuǎn)座子損傷>耐藥基因的去除。5種耐藥菌(RP4)消毒抗性由強(qiáng)到弱為：S.aureus6538約>E.faecalis33186>Salmonell503

3、12約>E.coli25922>P. aeruginosa27853。
　　2.采用透射電鏡、拉曼光譜分析及生物化學(xué)的方法，觀測了UV消毒致?lián)p傷菌的形態(tài)、物質(zhì)結(jié)構(gòu)、膜通透性和相關(guān)功能的改變。發(fā)現(xiàn)UV消毒可使細(xì)菌內(nèi)容物減少,且β-半乳糖苷酶活性提高及拉曼光譜分析結(jié)果均提示消毒后細(xì)菌的膜通透性發(fā)生了改變。此外,菌體中相關(guān)抗氧化酶活性也有明顯升高。
　　3.以E.coli K12為待測目標(biāo)菌，采用大濾膜法(MF)、多管發(fā)酵法(MT

4、F)、酶底物法(EST)分別對臭氧損傷菌進(jìn)行檢測，計算其對臭氧損傷E.coli的檢出率。結(jié)果發(fā)現(xiàn):MTF在檢測野生損傷菌方面表現(xiàn)出較高的靈敏性，其檢出率最高可達(dá)100％，EST最多可檢測4.76%損傷的E.coli，而MF檢出率為0。
　　4.通過實驗室模擬水處理中的消毒處理，研究了游離ARGs轉(zhuǎn)化UV消毒損傷菌的條件及其影響因素。結(jié)果發(fā)現(xiàn)：損傷菌轉(zhuǎn)化頻率較對照組高1~2個數(shù)量級。環(huán)境溫度、pH值，作用時間、氨氮、CODMn、金屬