兩種因素對(duì)目標(biāo)近場(chǎng)RCS特性影響的研究.pdf_第1頁
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1、現(xiàn)代戰(zhàn)爭(zhēng)中,對(duì)抗主要表現(xiàn)為先進(jìn)電子技術(shù)的對(duì)抗,隱身與反隱身已成為對(duì)抗的主要領(lǐng)域之一。對(duì)于反隱身技術(shù)必須從目標(biāo)的電磁散射特性入手,對(duì)各種復(fù)雜目標(biāo)包括隱身目標(biāo)的雷達(dá)散射截面(RCS:Radar Cross Section)進(jìn)行有效的預(yù)估。隨著目標(biāo)隱身技術(shù)的發(fā)展,近年來有關(guān)目標(biāo)近場(chǎng)電磁散射特性的研究日益引起人們的重視。 本文在簡(jiǎn)要地介紹了目標(biāo)近場(chǎng)散射特性的研究理論,及研究近場(chǎng)RCS的意義后,結(jié)合具體的項(xiàng)目需要(國(guó)家自然科學(xué)基金:603

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