兩模腔場譜間的量子干涉.pdf

1、本論文重點(diǎn)研究了兩模腔場譜間的干涉效應(yīng)對譜結(jié)構(gòu)的影響。在研究工作中把入射光場選定為二項(xiàng)式態(tài),通過改變兩模入射光場間頻率差△的大小,來對比研究兩模腔場譜間的量子干涉現(xiàn)象。
　　在本論文中首先研究了,依賴強(qiáng)度耦合J-C模型與雙模二項(xiàng)式光場相互系統(tǒng)中腔場譜間的干涉效應(yīng)。通過改變兩模光場間的頻率差,發(fā)現(xiàn):在g﹤△≤g6(g為原子與腔場的耦合常數(shù))時,兩模光場間的量子干涉對腔場譜強(qiáng)度的影響不明顯,可以忽略;在△≤g時,發(fā)現(xiàn)兩模光場間的量子干

2、涉對腔場譜結(jié)構(gòu)有著十分明顯的影響。
　　接著討論了具有偶極相互作用的兩等同二能級原子與雙模二項(xiàng)式光場相互作用過程的腔場譜。研究結(jié)果顯示:在兩模光場頻率差1.4≤△≤6g時,兩模光場間的干涉效應(yīng)對腔場譜強(qiáng)度的影響比較明顯;在△≤1.4g時,發(fā)現(xiàn)兩模光場間的干涉效應(yīng)對腔場譜結(jié)構(gòu)有著十分明顯的影響,尤其當(dāng)△從1.4g逐漸減少時模I和模II的三個主峰開始逐漸重疊,兩模腔場譜之間出現(xiàn)了十分明顯的干涉現(xiàn)象。
　　最后對存有Kerr介質(zhì)包