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1、ITO(氧化銦錫)透明導(dǎo)電薄膜是一種重要的光電功能薄膜,它在平板顯示技術(shù)、有機(jī)發(fā)光二極管和太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域中有著重要的作用。復(fù)雜線(xiàn)路的設(shè)計(jì)以及ITO的高電阻限制了它的應(yīng)用,在ITO導(dǎo)電玻璃表面進(jìn)行化學(xué)鍍鎳是降低其電阻值行之有效的方法。但鍍層與基體之間的結(jié)合力、鍍層的選擇性沉積是急需解決的問(wèn)題。
本文以ITO作為研究基體材料,研究了化學(xué)鍍鎳前處理技術(shù),獲得的基底選擇性良好,然后施以酸性化學(xué)鍍鎳,得到的鍍層結(jié)合力佳。
通
2、過(guò)外觀(guān)目測(cè),結(jié)合力測(cè)試,SEM,EDS對(duì)鍍層的分析,確定了前處理工藝最佳條件。研究結(jié)果表明,在不同類(lèi)型的刻蝕液中,以磷酸為主的刻蝕液(0.02~0.03mol/L)能夠得到刻蝕均勻的表面;同時(shí)以丁二酸為主的催化液得到的鍍層表面光亮。通過(guò)探究時(shí)間、溫度和濃度分別對(duì)蝕刻、催化、活化效果的影響,并觀(guān)察鍍層表面形貌和結(jié)合力情況來(lái)確定工藝參數(shù),最終得到無(wú)漏鍍的鍍層。
實(shí)驗(yàn)研究了工藝參數(shù)對(duì)鍍鎳層的影響,確定了最佳的鍍鎳工藝。通過(guò)對(duì)比不同工
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