CdSe單晶體生長工藝與探測器性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、硒化鎘(CdSe)晶體平均原子序數(shù)高,對(duì)射線的阻止本領(lǐng)強(qiáng);禁帶寬度大,電阻率高,漏電流較??;載流予的遷移率一壽命積較大,電荷收集效率高;化學(xué)穩(wěn)定性好,不潮解,機(jī)械加工性能好。由于其具有上述優(yōu)點(diǎn),使CdSe成為一種新型的性能優(yōu)異室溫半導(dǎo)體探測器材料。但由于獲得高質(zhì)量的CdSe單晶比較困難,器件加工及制作工藝也還不成熟,制約了人們對(duì)CdSe核輻射探測器的深入研究及其核輻射探測器的應(yīng)用。 目前,生長CdSe單晶的技術(shù)中,熔體生長技術(shù)需

2、高壓裝置,且生長晶體電阻率較低;熔劑生長技術(shù)在晶體內(nèi)部會(huì)殘留微量熔劑,影響晶體性能;氣相生長技術(shù),因能制備出性能較好的單晶,電阻率達(dá)10<'6>Ω.cm而優(yōu)于其余兩種技術(shù)。但也還存在著一些尚未解決的問題,如完整性不夠好、電阻率還不夠高,使得生長晶體的質(zhì)量還不夠理想。為了改善探測器的性能,人們?cè)谄骷庸ぶ谱鞴に嚨难芯可献隽艘欢ǖ墓ぷ鳎綔y器的性能得到了一定的改進(jìn)。但是能量分辨率仍然不夠理想,工作穩(wěn)定性也尚需進(jìn)一步的提高。所以還需要對(duì)CdS

3、e晶體生長和探測器制備工藝及其性能進(jìn)行深入研究。 本文對(duì)CdSe單晶氣相生長過程中的熱力學(xué)參數(shù)進(jìn)行了研究,計(jì)算了封閉體系中不同系統(tǒng)總壓下平衡氣相組成的變化,發(fā)現(xiàn)隨系統(tǒng)總壓力增大,平衡氣相組成中分解組分所占的比例減小,晶體完整性增加;獲得完整性較好單晶體的熱力學(xué)條件是,采用較高的平衡蒸氣壓和較小的溫度梯度;同時(shí)通過對(duì)Cdse多晶原料熱失重曲線的研究,計(jì)算出部分晶體氣相生長動(dòng)力學(xué)參數(shù),并對(duì)晶體穩(wěn)態(tài)生長時(shí),提拉速度應(yīng)滿足的條件進(jìn)行了討

4、論。 根據(jù)CdSe晶體生長的熱力學(xué)及動(dòng)力學(xué)研究結(jié)果,進(jìn)行工藝優(yōu)化,在改進(jìn)的兩溫區(qū)單晶生長爐中采用氣相提拉法生長出等徑部分達(dá)φ14×40mm的CdSe單晶體,電阻率可達(dá)到10<'9>Ω.cm量級(jí)。性能表征表明晶體完整性較好,內(nèi)部缺陷較少,品質(zhì)較高。適合于制作核輻射探測器。 研究了CdSe晶體在不同氣氛及真空中退火后的正電子湮沒壽命,紅外透過和吸收以及I—V特性的變化,分析了晶體在不同熱處理工藝中的組成、結(jié)構(gòu)及性能之間的聯(lián)系

5、。研究結(jié)果表明,在Se氣氛中退火,很難使探測器的性能改善;而晶體在真空中500℃退火48小時(shí)后,探測器的電學(xué)性能得到明顯的改善,漏電流大幅度降低,有利于提高探測器的性能。 測試了不同表面處理工藝下晶體的SEM、XPS及I—V特性的變化,分析了不同表面處理工藝對(duì)CdSe晶片電學(xué)性能的影響。研究結(jié)果表明,在溴甲醇腐蝕晶片過程中會(huì)致使一定量的溴殘留在晶片表面上,對(duì)降低晶片的漏電流起負(fù)面作用,因此溴甲醇腐蝕工藝對(duì)降低晶片漏電流的作用有限

6、。雙氧水鈍化對(duì)晶片表面的溶解作用使表面留的溴含量減少,漏電流得到較大程度的降低。通過控制鈍化時(shí)間可使CdSe晶片表面結(jié)構(gòu)平整致密,從而獲得較佳的電學(xué)性能。同時(shí)雙氧水鈍化處理會(huì)增加表面上氧的含量,降低漏電流。因此提高探測器性能的最佳表面處理工藝是:CdSe晶片經(jīng)溴甲醇腐蝕30秒后再鈍化40分鐘。 使用不同材料在CdSe晶片上制備電極,并測試了I—V特性,分析了不同材料制備電極的接觸特性。研究結(jié)果表明,在CdSe晶片上制作C-C電極

7、,接觸特性基本上是歐姆接觸,有利于提高探測器的工作穩(wěn)定性;Au-In電極接觸在CdSe晶片上形成了肖特基勢壘接觸,有利于降低器件工作的漏電流,提高分辨率;同時(shí)具有對(duì)稱的MSM結(jié)構(gòu),正、反方向施壓,晶片中的電場分布和載流子濃度均基本不變。對(duì)于提高探測器的工作穩(wěn)定性有利。增大探測器的正極面積對(duì)于提高電荷的收集較為敏感,增大負(fù)極面積會(huì)導(dǎo)致電子注入增加或改變器件中載流子濃度及電場分布,從而導(dǎo)致器件的性能下降,穩(wěn)定性降低。 研究制出CdS

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