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文檔簡(jiǎn)介
1、在信息化迅猛發(fā)展的今天,新型電子產(chǎn)品已經(jīng)走入人們的視野。超市購(gòu)物無需排隊(duì);顯示器可折疊;智能手機(jī)微型化。這些美妙場(chǎng)景預(yù)示著晶體管正面臨著一次革命:從傳統(tǒng)的無機(jī)半導(dǎo)體晶體管向有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管(OFET)過渡。有機(jī)半導(dǎo)體材料與無機(jī)半導(dǎo)體材料相比,有突出的優(yōu)勢(shì),其研究正如火如荼。然而,相對(duì)而言,關(guān)于OFET的界面性質(zhì)提高方面的研究就比較少。因此,本文內(nèi)容主要集中于絕緣層界面修飾對(duì)OFET器件性能影響的研究,具體研究?jī)?nèi)容如下:
首先,
2、本文簡(jiǎn)要介紹了OFET的研究進(jìn)展及熱點(diǎn)研究問題,總結(jié)了OFET的器件結(jié)構(gòu)及各層材料,并介紹了OFET的基本工作原理。論述了有機(jī)半導(dǎo)體的導(dǎo)電類型和電學(xué)模型及以此得到的OFET主要參數(shù)。討論了半導(dǎo)體生長(zhǎng)理論、絕緣層表面能及粗糙度對(duì)器件性能的影響,并以此建立實(shí)驗(yàn)的理論依據(jù)。
然后,我們制備了高性能OFET器件。研究了十八烷基硅烷(OTS)修飾對(duì)器件性能的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,在OTS修飾SiO2后,得到的有機(jī)半導(dǎo)體的薄膜有序度更高,表
3、面形貌較為平整,遷移率增大;OTS優(yōu)越的絕緣性使得開關(guān)比提高約三個(gè)數(shù)量級(jí)。在此基礎(chǔ)上,我們深入研究了快速退火方式對(duì)OFET性能的影響,發(fā)現(xiàn)在快速方式退火得到的OTS薄膜上蒸鍍得到的并五苯薄膜有序度大大提高,而且快速退火方式能夠進(jìn)一步降低表面陷阱密度,故遷移率增大,閾值電壓減小。
我們還選取了三種聚合物(聚甲基丙烯酸甲酯-PMMA、聚苯乙烯-PS、聚4-乙烯基苯酚-PVP)修飾SiO2絕緣層,探討聚合物修飾對(duì)OFET性能的影響。
4、實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,聚合物修飾后,最大陷阱密度降低,故遷移率增大。聚合物的優(yōu)越絕緣性也使得開關(guān)比提高到105-106??焖偻嘶鸱绞侥軌虻玫阶罡叩挠行蚨群洼^低的粗糙度,故可進(jìn)一步優(yōu)化并五苯薄膜性質(zhì),而且快速退火方式能夠進(jìn)一步降低表面陷阱密度,減小閾值電壓,提高遷移率。同時(shí),我們從偶極內(nèi)建電場(chǎng)的角度分析了PVP修飾層得到的OFET閾值電壓最低的原因,推測(cè)是PVP產(chǎn)生的偶極電場(chǎng)產(chǎn)生一表面勢(shì),降低了OFET的閾值電壓。
最后,簡(jiǎn)要總結(jié)全文并
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