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文檔簡介
1、近年來,發(fā)光二極管(LED)被越來越廣泛地應(yīng)用到照明領(lǐng)域中。為了獲得更高的器件性能,以Ⅲ族氮化物為代表的第三代半導(dǎo)體材料被用于制作LED并得到了迅速發(fā)展。特別是非極性Ⅲ族氮化物因其能很好地消除量子阱中的量子限制斯塔克效應(yīng),可以大大提高LED器件的發(fā)光效率,因而受到越來越多的關(guān)注。本文主要使用金屬有機物氣相外延技術(shù)(MOVPE)在藍寶石襯底上進行非極性GaN基Ⅲ族氮化物的生長探索,研究其最佳的生長條件,特別是Si摻雜對其性能的影響。本文主
2、要研究內(nèi)容如下:
(1)分別在a,m,r面藍寶石襯底上進行了GaN的生長工藝的研究。通過對生長工藝的優(yōu)化在不同晶向的藍寶石襯底上均得到了表面平整的GaN晶體薄膜,并且由XRD的掃描結(jié)果獲知在a,m,r面藍寶石襯底上生長得到的GaN分別為極性(0001),半極性(11(2)2)和非極性(11(2)0)取向的晶體。在a面藍寶石襯底上進行生長時主要對成核層(AlN)的Ⅴ/Ⅲ比進行調(diào)試,結(jié)果發(fā)現(xiàn)隨著Ⅴ/Ⅲ比的增加,晶體質(zhì)量也得到提高。
3、在m面藍寶石襯底上進行生長時采用與在a面藍寶石襯底上進行生長相似的生長條件。而在對r面藍寶石襯底上生長非極性GaN的生長工藝進行優(yōu)化時對比了不同成核層對晶體質(zhì)量的影響,發(fā)現(xiàn)采用單層高溫AlN成核層時晶體質(zhì)量最好。
(2)研究了在r面藍寶石襯底和m面藍寶石襯底上分別生長非極性(11(2)0)和半極性(11(2)2) AlGaN的生長條件。通過實驗發(fā)現(xiàn),非極性(11(2)0) AlGaN的表面形貌和晶體質(zhì)量并不是正相關(guān)的。也就是說
4、好的表面形貌和好的晶體質(zhì)量很難同時獲得。在使用AlN/GaN復(fù)合成核層時,當(dāng)AlN生長溫度為1050℃,Ⅴ/Ⅲ比為10000,GaN生長時間為15分鐘時,外延層獲得最平整的表面形貌,但晶體質(zhì)量較差;而在使用高溫AlN成核層時,當(dāng)AlN生長溫度為1050℃,Ⅴ/Ⅲ比為2567,GaN生長時間為30分鐘時,外延層獲得最好的晶體質(zhì)量,但表面形貌卻較差。同時還發(fā)現(xiàn)使用高溫AlN成核層和較高的AlGaN生長溫度對于改善非極性(11(2)0) Al
5、GaN外延層的晶體質(zhì)量很有幫助。另外也發(fā)現(xiàn)使用Al組分逐次降低的多層AlGaN作為緩沖層能夠有效地改善半極性(11(2)2) AlGaN材料的晶體質(zhì)量。
(3)研究了Si摻雜分別對在c,a,m,r面藍寶石襯底上生長的AlGaN薄膜的結(jié)構(gòu)性質(zhì)、電學(xué)性質(zhì)以及光學(xué)性質(zhì)的影響。結(jié)果均顯示Si摻雜能夠有效地改善分別在a面和m面藍寶石襯底上生長的極性和半極性AlGaN薄膜的晶體質(zhì)量。而由于Si摻雜提高了在a面藍寶石襯底上生長的AlGaN晶
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