超結構波導光柵設計與制備.pdf

1、超結構光柵由于具有梳狀反射譜特性被廣泛用于密集波分復用(DWDM)系統(tǒng)的器件中，如基于超結構光柵制作的多通道濾波器、色散補償器、復用/解復用器等。超結構光柵可用于分布式布拉格反射器(DBR)型半導體激光器中,使激光器獲得寬范圍波長可調。超結構光柵器件性能與光柵制作密切相關。在現有的微納圖形制作技術中,納米壓印技術呈現出低成本、高分辨率和高效率等優(yōu)勢，因而近幾年得到了廣泛的研究。
　　本論文圍繞超結構光柵的結構設計及納米壓印技術制備

2、超結構光柵展開了一系列的研究和探索。具體工作如下：
　　(1)基于傳輸矩陣方法建立了光柵特性分析的理論模型，利用該模型對超結構光柵的反射譜特性進行了模擬；重點研究了光柵反射譜平坦化技術，并討論了光柵參數對其反射譜特性的影響。在此基礎上，設計了用于DBR型調諧半導體激光器反射器的取樣光柵與數字級聯(lián)光柵。
　　(2)在傳統(tǒng)的納米壓印工藝基礎上進行了工藝改進，引入防粘技術與軟模版壓印技術，獲得了大面積均勻的圖形壓印效果。同時采用自