立方氮化硼薄膜的射頻濺射制備和光學性質研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文主要研究工藝參數(shù)對制備立方氮化硼的影響,立方氮化硼的光學性質和退火相變機理。 用磁控濺射法制備六角氮化硼薄膜,在襯底溫度、襯底偏壓、工作氣壓等條件一定的情況下改變工作氣體(氮氣和氬氣)中氮氣的比例,以制備高質量的六角氮化硼薄膜,薄膜以紅外吸收光譜標識。實驗結果表明,工作氣體中氮氣的比例對制得的六角氮化硼薄膜有很大影響,在氮氣比例為40％時得到理想的六角氮化硼薄膜根據(jù)Si片上BN薄膜的反射光譜R(λ),利用matlab6.5編

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