TiZrON鍍膜根管銼的組織與性能研究.pdf

1、不銹鋼和鎳鈦合金是常用的根管治療器械材料。然而，在使用過(guò)程中鎳離子和鉻離子的溶解析出容易引起患者過(guò)敏，甚至可能致癌。避免鎳離子和鉻離子析出的有效方法之一是在根管銼表面附加一層防護(hù)性膜層。本研究運(yùn)用多弧離子鍍方法對(duì)鎳鈦根管銼和不銹鋼根管銼表面鍍覆氮氧鈦鋯(TiZrON)薄膜。采用 TiZr合金靶材并通過(guò)改變沉積偏壓，氧氣流量，氮?dú)饬髁康儒兡すに噮?shù)進(jìn)行TiZrON膜層的沉積試驗(yàn)。
　　采用掃描電子顯微鏡及能譜分析進(jìn)行 TiZrON膜

2、層表面成分和組織形貌的測(cè)定，采用X射線衍射儀測(cè)試分析了膜層的相組成，采用Parstat2273電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)完成了電化學(xué)腐蝕性能分析，采用模擬根管預(yù)備試驗(yàn)比較了不同工藝下鍍膜根管銼的實(shí)際使用效果。
　　研究結(jié)果表明，對(duì)于 NiTi合金根管銼，在保持原始 NiTi合金根管銼彈性性能的前提下，從耐磨性考慮，膜層中氧含量應(yīng)該適中；從耐蝕性方面分析考慮，膜層中氧含量應(yīng)該較低；兼顧耐蝕性和耐磨性，優(yōu)化的沉積工藝為負(fù)偏壓-100~-150 V

3、，氧流量在13sccm，沉積時(shí)間不超過(guò)20分鐘，鍍膜期間溫度不超過(guò)230℃。
　　對(duì)于不銹鋼根管銼，從耐磨性考慮，在-100V偏壓下，氧含量較低的TiZrON膜層鍍覆的根管銼表現(xiàn)出最佳的耐磨性，而在-150V偏壓下，氧含量適中的TiZrON膜層鍍覆的根管銼表現(xiàn)出最佳的耐磨性；同時(shí)，與其它沉積工藝的膜層相比，這兩種膜層也表現(xiàn)出更為良好的耐蝕性。
　　綜上所述，通過(guò)選擇適合的多弧離子鍍沉積工藝和陰極弧源靶材，能夠在NiTi合金根