射頻磁控濺射氧化鋅薄膜的制備、改性及光催化性能研究.pdf

1、　　隨著地球環(huán)境問題的日益嚴重,利用納米半導(dǎo)體光催化劑進行環(huán)境凈化已經(jīng)引起了廣泛的重視。目前的應(yīng)用主要集中在水和空氣的凈化和處理方面。然而傳統(tǒng)的粉末光催化劑在應(yīng)用中存在許多缺點,如反應(yīng)過程中必須攪拌,反應(yīng)后催化劑難于分離和回收等。而納米薄膜半導(dǎo)體光催化劑在處理污水過程中不易流失、便于回收、無二次污染,克服了這些缺點,并有著廣闊的工業(yè)用途。
　　ZnO是一種具有許多卓越性能的寬禁帶Ⅱ-Ⅳ族化合物半導(dǎo)體材料,對于ZnO的催化性能已有一

2、些研究,但由于ZnO自身的光腐蝕作用：ZnO+2h+→Zn2++1/2O2,人們對其研究較少。然而,將ZnO納米薄膜進行離子注入改性處理,進行貴金屬表面修飾,或者制備以ZnO半導(dǎo)體材料為主體的氧化物混合物薄膜,不僅可使ZnO自身的光腐蝕作用減弱,而且也會進一步提高ZnO薄膜的光催化性。
　　本文利用射頻磁控濺射分別制備ZnO薄膜、ZnO-TiO2薄膜、ZnO-SnO2薄膜,并對制備出的ZnO薄膜進行了XRD、AFM、Raman、U