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1、本文內(nèi)容包括: 1.利用原子力顯微鏡研究640'C初始覆蓋Si層時(shí)(0-4.2A)sJOe量子點(diǎn)的形貌轉(zhuǎn)變過(guò)程,實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)穹形量子點(diǎn)逐漸轉(zhuǎn)化為金字塔形量子點(diǎn),表明640℃覆蓋Si時(shí)SiGe量子點(diǎn)的形貌轉(zhuǎn)變是一個(gè)動(dòng)力學(xué)過(guò)程。 2.利用原子力顯微鏡和一種化學(xué)腐蝕方法研究640℃初始覆蓋Si層時(shí)(0-4.2A)SiGe量子點(diǎn)內(nèi)6﹪Ge等組分面的演化。從彈性常數(shù)各向異性的角度討論了覆蓋si時(shí)SiGe金字塔形量子點(diǎn)內(nèi)部沿金字塔底部對(duì)
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