單晶銅微納米柱力學(xué)性能研究.pdf

1、隨著人類科技的進(jìn)步和時(shí)代的發(fā)展，微觀尺度下的應(yīng)用已成為新世紀(jì)研究的重要課題。以電子通訊技術(shù)為代表的微電子器件，光電子器件等均對(duì)微納米尺度下的結(jié)構(gòu)和材料的力學(xué)性能和破壞形態(tài)的研究提出迫切要求。另一方面，科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步，如納米壓痕儀，聚焦離子束（focused ion beam,FIB），電子顯微鏡（SEM）,透射電子顯微鏡（TEM）等儀器的出現(xiàn)，使得微觀實(shí)驗(yàn)變得可能?；谝陨线@些，本文進(jìn)行了以下相關(guān)研究工作。
　　（1）研究聚焦離子

2、束（FIB）濺射涂層對(duì)微納米柱力學(xué)性能和破壞形態(tài)的影響，并通過透射電子顯微鏡（TEM）對(duì)濺射涂層的原子結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析；
　?。?）研究在相同的加載速率和溫度下，不同晶粒取向的微納米柱的力學(xué)性能和破壞形態(tài)，并通過分子動(dòng)力學(xué)模擬研究其破壞機(jī)理；
　?。?）研究在相同的加載速率和溫度下，高徑比、結(jié)構(gòu)尺度對(duì)微納米柱破壞形態(tài)以及荷載位移曲線和應(yīng)力位移曲線的影響；
　?。?）通過分子動(dòng)力學(xué)模擬，參照有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果，研究晶粒取向、溫度、