版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、雌一,㈧I 鍪I 簦妻麟攀蠹菱≯鋈瓣薰燮I ’} 隅強(qiáng)泓游j , 薹k 曩㈠獨(dú)l 創(chuàng)性≯』明秘:綣㈧{ } ∥鬻澎i ,黲簿篡纛茹答耄篇囂躐戮! ㈧- G 薹凌鹺.+ 氣’,:奴的研究工作和成果的任何霸獻(xiàn)均已在論文中作了明確的說明井已致謝。。0 { ? ≯! ..::{ 一1 1 { k ,,j √、、弋.■‘’—p J ,f 、’‘’,、、.、”+ , 斗 ,f t t 卜j - ‘』f ‘,.K 氣、 ∥、’毒∥斧j I 本論文及其
2、相關(guān)資料若有不實(shí)之處,由本人承擔(dān)' 坷相關(guān)責(zé)任.;’_ ;’;:j 翼’≤一i 謄≥;.# 拶夕? 豢1 r 1 t ’j 1 ’。, ,’r :I r | n ’r 1、I ,r 嚕 ■叫‘ l f n、, 、?!?,,t + ’ r一·一, 1 t ·+ jr ’ 7 , T ’,婁::鬈;。tj :i ;。l ‘≯i ≯.:0 r 二{ :’乏一孽立。竺j ■論文作者簽名乙套i 臣蘊(yùn),二- l ’鼻,加
3、玨年哆月乒日? 卜7 蔓::分餮燮謄籀戮攀嵩籀簇《鬻釜主瓣鬻 ≥∽。i ::薅:≯∥;一+ 學(xué)位論文使用授權(quán)鬈≯o 施? 琴蠢知《:囊:≥慧_ 篇弋二≯≯:1 0 ㈡;,乏;l “jk ≯..匍》≮?!螕? 斗一j ;:嘉要;;≥i ,j 裂奠‘霉0 j 一;≥:;:i 辮氍篡荔靄臻絮于j ;醺囊黧囊:i ;蘩熊鼉◆霾◆纓燮孽鬻研究生:龔振瑤指導(dǎo)教師:自力靜副教授摘要及光催化性能的簽名: 壟查盤蘊(yùn)簽名: 面左《采用磁控濺射離子鍍技術(shù)制備
4、系列啊0 2 .Z n O 復(fù)合薄膜,通過調(diào)節(jié)濺射靶材電流的大小控制薄膜中Z n /T i 比值。采用S E M ,A F M ,R a m a _ r l 和X P S 表征薄膜的微觀結(jié)構(gòu)。以甲基橙作為光催化污染物,薄膜的吸光度和對甲基橙溶液的降解率為依據(jù),研究Z n /T i 對T i 0 2 .Z n O 復(fù)合薄膜微觀結(jié)構(gòu)及光催化性能的影響:以優(yōu)化出的( n 0 2 .Z n O ) 為主體,制備,n 0 2 為頂層的T i 0
5、2 /( n 0 2 - Z n O ) 梯度結(jié)構(gòu),通過重復(fù)性光催化及在5 %的H C I 、5 %的N a O H 溶液中浸泡實(shí)驗(yàn),研究頂層n 0 2 對不同薄膜光催化性能的持久性及穩(wěn)定性的影響。探討頂層的厚度、微結(jié)構(gòu)對薄膜光腐蝕的影響機(jī)制。結(jié)果表明:T i 0 2 .Z n O 異質(zhì)復(fù)合薄膜的光催化性能均好于純n 0 2 ,但Z n /T i 不同其光催化能力不同。其中,Z n /T i 為I /9 .3 的薄膜K 值為0 .1 3
6、 0 8 8 ,是純T i 0 2 的1 .7 倍,半衰期t o .5 為其O .7 倍。而Z n O 提高T i 0 2 .Z n O 異質(zhì)復(fù)合薄膜的光催化效率的主要取決于對T i 0 2微觀結(jié)構(gòu)的影響。首先T i 0 2 .Z n O 復(fù)合薄膜的表面顆粒隨Z n /T i 的增加,呈現(xiàn)先減后增的趨勢,其大小分別為2 0 “ - - 2 5 n m 、1 6 “ - ' 2 0 r i m 、8 ~1 0 n m 、1 4 “
7、 - 1 7 n m 和3 0 “ - - 3 5 n m 左右,當(dāng)Z n /T i 為1 /9 .3 時(shí),表面顆粒尺寸最小,顆粒度也最為均勻;隨著Z n /T i 的增加,薄膜的表面粗糙度先增后減,其大小分別為1 .1 3 8 R a 、1 .6 7 0 R a 、2 .4 5 5 R a 、1 .8 6 5 R a 和1 .4 6 1 R a ,當(dāng)Z n /T i 為1 /9 .3 時(shí),復(fù)合薄膜的粗糙度最大。但所有T i 0 2 一
8、Z n O 復(fù)合薄膜的粗糙度均高于純T i 0 2 ; Z n 廠n S l /9 .3 時(shí),Z n O 的存在能夠抑制幣0 2 從銳鈦礦相向金紅石相轉(zhuǎn)變,而超過該值以后, Z n O 的穩(wěn)定作用下降;T i 0 2 .Z n O 復(fù)合薄膜的表面羥基含量均高于純T i 0 2 膜,且隨著Z n /T i 的增加,含量呈現(xiàn)先增后減的趨勢,其大小分別為7 .1 5 %、1 2 .4 9 %、1 3 .8 6 %、1 2 .5 3 %和1 0
9、 .6 7 %。當(dāng)Z n /T i = l /9 .3 時(shí),復(fù)合薄膜的表面羥基含量最大。其次,Z n /T i 與復(fù)合薄膜的光響應(yīng)范圍及吸光度呈正相關(guān),但對復(fù)合薄膜波長擴(kuò)展和紅移的影響程度不同。Z n /T i 越大,波長和紅移的程度越明顯,其中,復(fù)合薄膜可響應(yīng)光波的最大波長達(dá)到4 7 0 n m ,已進(jìn)入可見光范圍,比純T i 0 2 增加了約1 5 0 r i m ;能隙寬度也由3 .3 0 e v 變?yōu)榱? .6 4 e v 。T
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 磁控濺射TiO2-(TiO2-ZnO)梯度復(fù)合薄膜的制備及光催化性能的研究.pdf
- 能量過濾磁控濺射技術(shù)制備TiO2薄膜及其光催化性能研究.pdf
- TiO-,2-薄膜的磁控濺射制備及其光催化性能研究.pdf
- 磁控濺射制備改性TiO2薄膜及其光催化還原性能的研究.pdf
- 磁控濺射法ZnO薄膜及ZnO-TiO2復(fù)合薄膜的制備研究.pdf
- TiO2薄膜的制備及其光催化性能的研究.pdf
- 直流反應(yīng)磁控濺射制備Cu2O-TiO2復(fù)合薄膜及其光催化性能的研究.pdf
- 基于ZnO、TiO2光催化薄膜制備及其性能的研究.pdf
- 納米晶TiO2復(fù)合薄膜的光催化性能研究.pdf
- TiO-,2--ZnO納米復(fù)合薄膜的制備及光催化性能研究.pdf
- 納米TiO2薄膜的制備及其光催化性能的研究.pdf
- TiO2纖維的制備、復(fù)合及其光催化性能研究.pdf
- 含鐵TiO2印跡薄膜的制備及光催化性能研究.pdf
- TiO2薄膜的制備、改性及其光催化性能研究.pdf
- 磁控濺射TiO-,2-復(fù)合薄膜的光催化及殺菌特性.pdf
- 納米TiO2的制備及光催化性能研究.pdf
- TiO2復(fù)合納米纖維的制備及光催化性能研究.pdf
- 多孔TiO2薄膜的制備及其光催化性能的研究.pdf
- 磁控濺射非晶態(tài)TiO-,2--Ag(Mo)薄膜的光催化性能研究.pdf
- 改性TiO2催化材料的制備及光催化性能研究.pdf
評論
0/150
提交評論