自相關過程殘差控制圖及模式分類方法研究.pdf

1、隨著全球市場競爭的加劇,顧客對產(chǎn)品和服務質(zhì)量的要求越來越高,質(zhì)量控制得到了越來越多的重視。統(tǒng)計過程控制是保證產(chǎn)品質(zhì)量的重要技術手段,然而常規(guī)控制圖所要求的獨立同分布的前提條件在實際中并不能總是得到滿足。而由于數(shù)據(jù)采集技術的發(fā)展,自相關現(xiàn)象也更加普遍,因而對自相關過程控制的研究具有重要的意義
　　 本文首先研究了一元自相關過程,先介紹了自相關和一元時間序列模型的基本概念,然后研究了自相關對常規(guī)控制圖的影響并用仿真的方法進行了驗證。

2、對一元自相關過程采用了殘差控制圖的方法,并且給出了殘差休哈特型控制圖的平均運行鏈長(ARL)。
　　 隨后研究了多元自相關過程控制,先介紹了多元時間序列模型和多元統(tǒng)計過程控制的相關概念,然后用仿真的方法研究了不同的自相關系數(shù)矩陣對于MEWMA控制圖表現(xiàn)的影響,并做了理論分析。最后用仿真的方法得出了殘差MEWMA控制圖和殘差Hotelling T2控制圖的平均運行鏈長(ARL)并做了對比分析.結果表明殘差MEWMA控制圖表現(xiàn)遠好于