若上下頜牙的咬合過緊

1、步 驟：1、門診 口腔檢查 牙體預(yù)備 取印模 灌模 確定頜位關(guān)系,,,,,七、可摘局部義齒的制作,2、技工室上架 模型設(shè)計(jì)和模型預(yù)備 制作支架蠟型、鑄造或彎制法制作支架和卡環(huán) 排牙 完成基托

2、蠟型 裝盒 去蠟、填膠、熱處理 開盒、磨光 戴牙,,,,,,,,一、  口腔預(yù)備 （一）清除牙結(jié)石和軟垢若余留牙有大量的結(jié)石和軟垢，應(yīng)先潔牙。（二）修整牙體形態(tài)和調(diào)整咬合關(guān)系1、磨改過高的牙尖、較陡的斜面和銳利的邊緣嵴，以消除早接觸和牙合干擾。,2、調(diào)磨伸長(zhǎng)

3、牙，調(diào)改牙合平面和牙合曲線。個(gè)別前牙缺失，須修改兩側(cè)鄰牙的形態(tài)。 3、磨改缺隙兩側(cè)牙齒鄰面過大的倒凹及義齒范圍內(nèi)余留牙的倒凹。,4、調(diào)改基牙倒凹的深度、坡度和牙軸面過大的倒凹。 5、適當(dāng)調(diào)改基牙的鄰頰或鄰舌線角，以免卡環(huán)肩部的位置過高。,（三）支托凹的預(yù)備目的：是安放牙合支托，在基牙牙合面相應(yīng)的部位作必要的牙體磨除，使牙合支托就位后不妨礙咬合，并與牙合面邊緣嵴的外形相協(xié)調(diào)。,預(yù)備的原則：（1）支托凹一般預(yù)備在缺隙兩側(cè)的近、

4、遠(yuǎn)中邊緣嵴處。也可在舌隆突或切緣。（2）若上下頜牙的咬合過緊，或牙合面牙本質(zhì)過敏時(shí)，不要勉強(qiáng)磨出支托凹，可適當(dāng)調(diào)磨對(duì)頜牙。若對(duì)頜牙伸長(zhǎng)，可適當(dāng)多磨除對(duì)頜牙，少磨基牙。,（3）支托凹的位置盡量利用上下頜牙咬合狀態(tài)的天然間隙，也可設(shè)在不妨礙咬合接觸處。（4）在保證鑄造牙合支托強(qiáng)度的前提下，盡量少磨牙體組織。牙合支托凹的深度一般約為1-1.5mm，凹底應(yīng)在牙釉質(zhì)內(nèi)。邊緣嵴及線角處應(yīng)圓鈍。,（5）鑄造牙合支托呈三角形或匙形，有一定的長(zhǎng)度、寬

5、度和深度，支托凹底與基牙的長(zhǎng)軸垂線呈20°斜面或垂直。（6）邊緣有銀汞充填物時(shí)，盡量不放在充填物上，若無法避開充填去，應(yīng)擴(kuò)展到充填區(qū)外的牙體組織上，或基牙做冠后在鑲牙。,前牙支托凹的預(yù)備： 尖牙支托一般放在舌隆突上，呈v字型，近遠(yuǎn)中長(zhǎng)2.5-3mm,唇舌徑寬約2mm,切齦徑深約1.5mm。下頜前牙的切支托可設(shè)置于切角或切緣上，寬約2.5mm,深為1-1.5mm,（四）隙卡溝的預(yù)備 隙卡溝位于兩個(gè)相鄰牙牙合

6、面間的牙合外展隙區(qū)。隙卡通過牙牙合外展時(shí)應(yīng)不妨礙牙合接觸。,隙卡溝的預(yù)備原則是盡量利用天然牙間隙，少磨牙體組織，必要時(shí)可調(diào)磨對(duì)頜牙。隙卡溝的深度與寬度應(yīng)根據(jù)選用的卡環(huán)而定，不應(yīng)破壞鄰接點(diǎn)。隙卡溝一般為0.5~1.0mm，呈U型，溝低稍平，在頰舌外展隙處應(yīng)圓鈍。,牙體預(yù)備包括： 1．基牙和余留牙的調(diào)磨 2、支托凹和隙卡溝的預(yù)備,二、印模和模型 （一）托盤的選擇

7、 托盤是承載印模材料在口腔內(nèi)取得印模的一種器具。取模前要按患者牙弓的大小、形狀，缺牙區(qū)牙槽嵴的高度，缺牙的數(shù)目和部位，印模材料的不同來選擇托盤。,托盤與牙弓內(nèi)外側(cè)應(yīng)有3~4mm間隙，以容納印模材料，其翼緣應(yīng)距粘膜皺襞約2mm , 不妨礙唇、頰和舌的活動(dòng)。,上頜托盤的遠(yuǎn)中邊緣應(yīng)蓋過上頜結(jié)節(jié)和顫動(dòng)線，下頜托盤后緣應(yīng)蓋過磨牙后墊區(qū)。,（三）印模的種類 1．解剖式印摸：

8、 解剖式印摸是在承托義齒的軟、硬組織處于 靜止?fàn)顟B(tài)時(shí)，所取得的印模，為無壓力印模， 用稠度較小的印模材料所取得的印模即屬于此 類。適用于牙支持式和粘膜支持式義齒。 2．功能性印摸 功能性印模是在壓力下取得的印模，適用 于基牙和粘膜混合支持式義齒。,（四）取印膜的方法： 1．體 位 取印

9、模前首先調(diào)整患者 的體位和頭位。取下頜 印模時(shí)，患者的下頜與 醫(yī)師的上臂中份大致相 平，張口時(shí)下頜牙弓的平面與地平面平行。 取上頜印模時(shí)，其上頜與醫(yī)師的肘部相平或 者稍高，張口時(shí)上頜牙弓的平面與地平面 平行。,2．制取解剖式印模法 取上頜印模時(shí)，用左手持口鏡牽拉患者左 側(cè)口角，在倒凹區(qū)、較高的頰間隙處、上頜結(jié)節(jié)