1107.pzt厚膜的電射流沉積研究

1、碩士學位論文PZT厚膜的電射流沉積研究InvestigationonElectrohydrodynamicJetDepositionofPZTThickFilms國家自然科學基金項目(No51475081)資助遼寧省教育廳科學研究一般項目(No201301504)資助中央高校基本科研業(yè)務費專項資金項目(NoDUTt5LABl9)資助作者姓名：昌量明學科、專業(yè)：扭越遮讓及理論學號：21204128指導教師：王太圭教援完成日期：2Q!生魚月

2、!目大連理工大學DalianUniversityofTechnology大連理工大學碩士學位論文摘要PZT厚膜具有高壓電性能和機電耦合系數(shù)，在高頻超聲傳感器、微換能器、微變形鏡等高性能微器件方面具有廣闊的應用前景。利用電射流沉積技術(shù)(Electrohydrodynamicietdeposition，EJD)制備膜時，具有沉積速率高、膜結(jié)構(gòu)可控性強等優(yōu)點。本文配制了PZT懸浮液，利用電射流沉積技術(shù)制備了PZT厚膜，首先研究了電射流沉積參數(shù)

3、、懸浮液混合條件對厚膜致密性的影響，并對PZT厚膜進行了溶膠的滲透；然后對電射流沉積的PZT厚膜進行了拋光處理，研究了厚膜表面粗糙度和厚度對PZT厚膜壓電性質(zhì)的影響；最后研究了柔性襯底的PZT厚膜沉積。首先，制備了PZT復合懸浮液，以硅片為襯底，電射流沉積了PZT厚膜，研究了電射流沉積高度、流量及懸浮液混合條件對厚膜致密性的影響，降低電射流沉積高度和流量有助于提高PZT厚膜致密性，利用球磨方法混合的PZT懸浮液，沉積的PZT厚膜致密性明

4、顯提高，制備了無裂紋的PZT厚膜。為了迸一步提高厚膜的致密性，研究了PZT厚膜的溶膠滲透，溶膠滲透后的PZT厚膜致密性明顯提高。然后，研究了電射流沉積PZT厚膜的機械拋光工藝，經(jīng)過機械拋光處理，PZT厚膜的表面粗糙度Ra從422nm降低到23nm。此外，分析了厚膜表面粗糙度和厚度對PZT厚膜壓電性質(zhì)的影響，降低表面粗糙度促進了PZT厚膜壓電性質(zhì)的提高，當PZT膜厚為10pm60pm之間時，PZT膜壓電性質(zhì)隨著膜厚的增加顯著增大，當膜厚在