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文檔簡介
1、掃描隧道顯微鏡STM(Scan Tunnel Microscopy)自1986年問世以來,經(jīng)過十多年的技術(shù)改進(jìn)和應(yīng)用研究,STM己從實驗室走向了市場,并且從單純的STM儀器發(fā)展出了系列掃描探針顯微鏡SPM(Scanning Probe Microscopy)并完善了它的設(shè)計理論。原子力顯微鏡AFM(Atomic Force Microscopy)是在SPM的基礎(chǔ)上的最新發(fā)展,并憑借其納米量級的測量精度和不受樣品表面導(dǎo)電性限制的優(yōu)勢奠定了
2、它作為一種獨(dú)立的表面分析儀器的地位,促進(jìn)了納米科技領(lǐng)域的高速發(fā)展,尤其在信息存儲、生物和材料學(xué)等方面的研究應(yīng)用,獲得了極高的科研價值,并為這些原來的瓶頸專業(yè)開創(chuàng)了巨大的發(fā)展空間。
本課題是作者在近十幾年的工作中,應(yīng)用AFM并結(jié)合磁頭產(chǎn)品生產(chǎn)的實際需要,對多種磁頭結(jié)構(gòu)和磁性材料在納米級水平上進(jìn)行了比較系統(tǒng)的分析與研究。以大量實驗的測試圖象和數(shù)據(jù)為依據(jù),找出了對磁頭測試圖象質(zhì)量影響的因素。總結(jié)出適合磁頭生產(chǎn)的測試條件和方法,以及磁
3、頭微觀結(jié)構(gòu)對磁頭性能的影響關(guān)系。同時也系統(tǒng)地探討了為獲得高分辨的AFM掃描圖像的相關(guān)問題(如制備樣品的方法、條件等)。同時,為了滿足公司大規(guī)模生產(chǎn)的需要,將AFM測試過程標(biāo)準(zhǔn)化、文件化,為公司的生產(chǎn)和技術(shù)改進(jìn)提供了有力的支持。
本論文首先簡述了AFM的發(fā)展歷程;工作機(jī)理;成像原理及AFM掃描探針對磁頭產(chǎn)品所適合的掃描方式。其次著重分析了利用AFM在磁頭生產(chǎn)過程中,工序?qū)Υ蓬^結(jié)構(gòu)的改變的測量,尤其是對磁頭納米微結(jié)構(gòu)的測量,并使其
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