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1、通過提拉法生長了Zn:Fe:LiNbO<,3>,Ce:Cu:LiNbO<,3>和Mg:Mn:Fe:LiNbO<,3>三種晶體。其中對(duì)Zn:Fe:LiNbO<,3>晶體,研究了不同的摻Zn<'2+>濃度對(duì)晶體光折變性能的影響;同時(shí)對(duì)Ce:Cu:LiNbO<,3>和Mg:Mn:Fe:LiNbO<,3>晶體切割后,分別進(jìn)行了氧化還原處理,研究了不同的處理方式對(duì)晶體光折變性能的影響。 利用二波耦合的實(shí)驗(yàn)方法測(cè)試了 Zn:Fe:LiNbO
2、<,3>,Ce:Cu:IJNbO<,3>和Mg:Mn:Fe:LiNbO<,3>晶體的體全息存儲(chǔ)性能,包括衍射效率、響應(yīng)時(shí)間、擦除時(shí)間等,發(fā)現(xiàn)晶體中的摻雜濃度以及晶體的氧化還原狀態(tài)都影響晶體的體全息存儲(chǔ)性能。 利用透射光斑畸變法測(cè)試了Ce:Cu:LiNbO<,3>晶體和Mg:Mn:Fe:LiNbO<,3>晶體的抗光致散射能力。通過測(cè)試發(fā)現(xiàn)晶體的氧化還原對(duì)晶體產(chǎn)生光折變效應(yīng)的主導(dǎo)機(jī)制有所不同,生長態(tài)和還原態(tài)晶體在光折變過程中是擴(kuò)散機(jī)
3、制和光生伏特效應(yīng)共同作用,氧化態(tài)晶體以光生伏特效應(yīng)為主。 本文又對(duì)測(cè)試后的晶體進(jìn)行了體全息存儲(chǔ)系統(tǒng)的研究。首先是改善實(shí)驗(yàn)光路,研究發(fā)現(xiàn)通過減少像差和探測(cè)器的噪聲能很好的提高存儲(chǔ)的質(zhì)量。其次,在對(duì)晶體進(jìn)行圖像存儲(chǔ)過程中發(fā)現(xiàn),晶體的光折變性能直接決定存儲(chǔ)質(zhì)量的好壞:對(duì)于Zn:Fe:LiNbO<,3>晶體,摻雜Zn<'2+>濃度的增加降低了響應(yīng)速度,但是提高了信息的存儲(chǔ)時(shí)間;對(duì)于Ce:Cu:IJNbO<,3>晶體,氧化還原處理直接影響
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