合金薄膜溫度傳感器高性能敏感膜的研究.pdf

1、薄膜傳感技術(shù)由于其便于小型化、集成化、多功能化、系統(tǒng)化及 網(wǎng)絡(luò)化，是目前傳感技術(shù)的研究前沿之一。Ni<,3>A1合金薄膜是一種性 能優(yōu)越且具有廣泛應(yīng)用前景的溫敏薄膜材料，具有寬測(cè)溫區(qū)域、低成 本、高穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。該薄膜的研究對(duì)解決目前溫度傳感器技術(shù)存在 的響應(yīng)時(shí)間長(zhǎng)、穩(wěn)定性差、體積大等問(wèn)題具有重要意義。 本文采用雙靶直流磁控共濺射法，探索了大功率濺射沉積Ni<,3>Al 合金薄膜的制備工藝，通過(guò)SEM、TEM、AFM、

2、四探針?lè)ǖ确椒ㄑ?究了其晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌和電學(xué)性能，并設(shè)計(jì)高性能薄膜TCR測(cè) 試電路，研究了Ni<,3>A1薄膜的測(cè)溫特性及熱處理對(duì)其電學(xué)和測(cè)溫性能 的影響。 結(jié)果表明，在常溫下采用大功率雙靶磁控共濺射法可以得到純度 高、成分比好、結(jié)晶完整、且結(jié)構(gòu)及性能優(yōu)良的Ni<,3>Al納米合金薄膜； 其表面光滑平整，均勻致密，晶體結(jié)構(gòu)為FCC結(jié)構(gòu)，在(111)方向上具 有較為明顯的晶格取向和擇優(yōu)生長(zhǎng)趨向;不同基底上的Ni<,