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1、本文系統(tǒng)研究了脈沖磁控濺射法沉積MgO復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)與性能. 采用脈沖磁控濺射沉積MgZrO薄膜,研究Zr含量、基板負(fù)偏壓和非平衡磁控濺射對(duì)復(fù)合介質(zhì)保護(hù)膜的化學(xué)組成、結(jié)晶取向、表面形貌、殘余應(yīng)力和透射率的影響規(guī)律,對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行了較為系統(tǒng)的分析和討論,獲得了具有重要參考價(jià)值的研究結(jié)果.實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),Zr含量、基板負(fù)偏壓和非平衡磁控濺射對(duì)MgZrO薄膜的結(jié)構(gòu)和性能有顯著影響.當(dāng)Zr含量為2.03at.﹪、基體偏壓為-150V時(shí)薄膜具有最
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