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文檔簡介
1、本文的主要內(nèi)容是通過二次陽極氧化法制備多孔陽極氧化鋁膜,在此基礎(chǔ)上對納米氧化鋅與多孔氧化鋁膜進(jìn)行了組裝,最后,我們以多孔氧化鋁膜為模板制備了氧化鋅納米點(diǎn)陣列膜。 本文首先對納米材料的發(fā)展進(jìn)行了綜述,包括納米材料概念的提出以及納米材料的發(fā)展階段。然后對多孔氧化鋁的發(fā)展進(jìn)行了詳細(xì)的闡述,包括多孔氧化鋁膜的結(jié)構(gòu)模型、形成機(jī)理、制備工藝和主要應(yīng)用等。在此基礎(chǔ)上,提出了本文的主要研究內(nèi)容和意義。 其次,我們詳細(xì)介紹了多孔氧化鋁膜的
2、制備工藝和過程,對不同氧化條件得到的多孔氧化鋁膜的性能進(jìn)行了測量和比較。結(jié)果顯示,不同氧化電壓下得到的多孔氧化鋁膜的X射線衍射有明顯的不同,40V氧化電壓下得到的多孔氧化鋁膜衍射峰半高寬更小,而且峰的位置角度也更小,這說明得到的膜應(yīng)力小,有序度高。光學(xué)性能測量顯示,該膜具有大于70%的可見光透過率,并且在350nm光激發(fā)下425nm處有一個光致發(fā)光峰。在多孔氧化鋁膜的基礎(chǔ)上,通浸泡、加熱等簡單的工藝對氧化鋅納米粒子與多孔氧化鋁膜進(jìn)行了組
3、裝,制備了氧化鋅與多孔氧化鋁的復(fù)合體系。對復(fù)合體系研究發(fā)現(xiàn),在多孔氧化鋁中的氧化鋅結(jié)晶良好,納米粒子的平均尺寸約為10.8nm,光致發(fā)光顯示相比多孔氧化鋁膜,復(fù)合體系的發(fā)光強(qiáng)度有所增強(qiáng)。通過射頻磁控濺射鍍膜的方法,制備了氧化鋅薄膜與多孔氧化鋁的組裝體系,研究發(fā)現(xiàn),溫度對復(fù)合體系的性能有較大地影響。常溫下制備的復(fù)合體系的光致發(fā)光強(qiáng)度更大,因?yàn)楣庵掳l(fā)光與氧化鋅的缺陷態(tài)有關(guān)。較高的溫度減少了氧化鋅的缺陷。以多孔氧化鋁膜為模板,制備了氧化鋅納米
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