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1、上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文一種新型半導(dǎo)體制造先進(jìn)過(guò)程控制:雙近似逆系統(tǒng)反饋控制姓名:華盛申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:碩士專業(yè):微電子學(xué)與固體電子學(xué)指導(dǎo)教師:程秀蘭200801156ABSTRACTAPCisveryimptanttoimprovethroughputyieldperfmanceofproductsinmodernsemiconductmanufacturing.ItisdifficultfuniversalAPCtoreduceerra
2、utomaticallyeffectively.AnovelantisystematicerrAPC:DualProximateInverseSystemFeedbackControl(DIFC)isestablishedinthispaper。Itcandecreasesystematicerrbyamendingpropertyvariationofequipments.InDIFCtwoloopsareusedtoinverseb
3、othtargetoutputrealoutput.Controllawwillanalyzethedifferencebetweenthemtoamendinput.SufficientconditionthatmakesDIFCasymptoticallystableconvergenttotargetoutputisgivenproved.DIFCissimulatedusingseveralvirtualsemiconductt
4、oolse.g.RTPionimplanterCMPtool.Differentcontrollaws(e.g.ProptionalProptionIntegralDifferentialPIDDynamicProptional)InverseSystem(e.g.RadialBasicFunction–RBFwkLinearApproximationModel)areusedinthesimulations.ItshowsthatDI
5、FCcandealwithsystematicalerrbothcontinuous(duringmanufacturing)step(aftermaintenance)DIFCdoreducetheseerrsbyseveraldersofmagnituderapidly.KEYWDS:AdvancedProcesscontrolSemiconductFabricationDualProximateInverseSystemFeedb
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