硅鋯復(fù)合涂層對(duì)氧化鋯粘接性能的影響.pdf

1、分類號(hào)：密級(jí)：UDC：學(xué)號(hào)：406522011296南昌大學(xué)碩士研究生學(xué)位論文硅鋯復(fù)合涂層對(duì)氧化鋯粘接性能的影響硅鋯復(fù)合涂層對(duì)氧化鋯粘接性能的影響TheeffectofSiO2ZrO2coatingonbondingperfmanceofdentalYTZP杜橋培養(yǎng)單位（院、系）：北京市中西醫(yī)結(jié)合醫(yī)院指導(dǎo)教師姓名、職稱：牛光良主任醫(yī)師申請(qǐng)學(xué)位的學(xué)科門類：醫(yī)學(xué)學(xué)科專業(yè)名稱：口腔臨床醫(yī)學(xué)論文答辯日期：2014年5月答辯委員會(huì)主席：鄭剛評(píng)閱人

2、：霍平鄧斌二零一四年五月摘要II摘要氧化鋯全瓷材料是近年來(lái)引入牙科的新型材料，其優(yōu)異的物理機(jī)械性能使其在口腔修復(fù)領(lǐng)域被廣泛使用。然而，由于氧化鋯陶瓷本身的化學(xué)惰性，使其與樹脂粘接劑間的粘接強(qiáng)度尚不穩(wěn)定，影響其在在口腔修復(fù)中的進(jìn)一步應(yīng)用。因此，兩者間的粘接強(qiáng)度有待進(jìn)一步研究。本研究包括了兩部分實(shí)驗(yàn)，其分別是：①硅鋯復(fù)合涂層對(duì)氧化鋯表面性能的影響。②硅鋯復(fù)合涂層對(duì)氧化鋯與樹脂粘接劑間粘接強(qiáng)度的影響。目的目的:①研究不同表面處理對(duì)氧化鋯表面微

3、觀形貌、元素組成及晶相結(jié)構(gòu)的影響，②研究不同表面處理對(duì)氧化鋯與樹脂粘接劑粘接強(qiáng)度的影響。材料和方法材料和方法:預(yù)燒結(jié)氧化鋯瓷塊切割成15mm15mm2mm方形瓷片共210片，分成七組，每組30片，分別進(jìn)行以下表面處理：①AS:氧化鋯瓷片致密燒結(jié)，表面不處理；②SB:氧化鋯瓷片致密燒結(jié)后，110m氧化鋁顆粒噴砂10s；③2SiO21ZrO2:氧化硅和氧化鋯按摩爾比2:1配制后涂層燒結(jié)；④1SiO21ZrO2:氧化硅和氧化鋯按摩爾比1:1配

4、制后涂層燒結(jié)；⑤1SiO22ZrO2:氧化硅和氧化鋯按摩爾比1:2配制后涂層燒結(jié)；⑥1SiO23ZrO2:氧化硅和氧化鋯按摩爾比1:3配制后涂層燒結(jié)；⑦1SiO24ZrO2:氧化硅和氧化鋯按摩爾比1:4配制后涂層燒結(jié)。上述試件經(jīng)表面處理后，蒸餾水超聲清洗10min。每組試件隨機(jī)選出10片，用掃描電鏡觀察其表面微觀形貌及其表面元素組成，X線衍射儀分析其表面晶體結(jié)構(gòu)，粗糙度儀測(cè)量其表面粗糙度。每組其它20個(gè)試件，表面經(jīng)9.5%氫氟酸酸蝕處理

5、后用樹脂水門汀粘接將其粘接在復(fù)合樹脂圓柱上制作粘接試件，將粘接試件置于37℃蒸餾水中水浴24h后，然后將其隨機(jī)分為兩個(gè)亞組，每亞組10片。其中一亞組直接測(cè)試氧化鋯與樹脂粘接劑間的剪切強(qiáng)度，另一亞組經(jīng)冷熱循環(huán)5000次后，再測(cè)試兩者間剪切強(qiáng)度，并觀察記錄其粘接破壞形式。結(jié)果結(jié)果:①電鏡觀察結(jié)果表明：空白對(duì)照組氧化鋯表面氧化鋯晶粒排列緊密，晶粒間不存在間隙；噴砂組氧化鋯表面不能觀察到晶粒結(jié)構(gòu)，表面均為噴砂造成的深淺不一的劃痕，局部出現(xiàn)裂紋和

6、斷裂；各涂層處理組氧化鋯表面在氫氟酸酸蝕前可以觀察到表面不同程度被玻璃相二氧化硅覆蓋，經(jīng)過(guò)氫氟酸酸蝕后，涂層處理組氧化鋯表面暴露出氧化鋯晶粒，晶粒間出現(xiàn)不同程度的間隙，隨涂層漿料中氧化硅含量的遞減，晶粒間間隙出現(xiàn)了從大到小到無(wú)的變化。②能譜分析表明：空白對(duì)照組氧化鋯表面僅有鋯元素和氧元素存在；噴砂組氧化鋯表面除了鋯元素和氧元素外，亦能觀察到少量鋁元素的存在；涂層處理組氧化鋯表面出現(xiàn)不同百分含量的硅元素，隨涂層漿料配方中氧化硅含量的遞減，