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1、理想的場(chǎng)發(fā)射冷陰極材料要求開(kāi)啟電場(chǎng)低、發(fā)射電流密度大、性能穩(wěn)定。目前常用的冷陰極材料有金屬材料、半導(dǎo)體材料、碳化物材料、氧化物材料等,研究表明大部分材料或者功函數(shù)大需要很高的驅(qū)動(dòng)電壓、或者化學(xué)活性高致使發(fā)射體劣化、或者發(fā)射電流密度小不滿足調(diào)制要求等缺陷。針對(duì)上述問(wèn)題,對(duì)場(chǎng)發(fā)射材料的研發(fā)主要采取繼續(xù)研制新的材料和對(duì)現(xiàn)有材料從組分、幾何結(jié)構(gòu)方面進(jìn)行修飾改性兩種技術(shù)途徑。二氧化鈦納米管陣列有較低的功函數(shù);長(zhǎng)徑比大和末端曲率半徑小的幾何特征,可
2、大幅度提高局域場(chǎng)增強(qiáng)因子;比表面積大,易于異質(zhì)材料修飾形成復(fù)合材料;而且制備工藝簡(jiǎn)便,適宜于作場(chǎng)發(fā)射體。然而該納米陣列體系在場(chǎng)發(fā)射應(yīng)用方面的研究較少,因此,本論文以“TiO2納米管陣列的場(chǎng)發(fā)射特性研究”為題,研究了TiO2/Ti納米管陣列的制備工藝及其場(chǎng)發(fā)射特性。主要述及以下幾方面的研究工作:
1. 改進(jìn)了陽(yáng)極氧化系列反應(yīng)裝置(可制備氧化鋁(AAO)、二氧化鈦納米管(多孔)陣列、電化學(xué)沉積等)。搭建了低氣壓化學(xué)氣相沉積(L
3、CVD)系統(tǒng)(最高溫度~1000℃,極限真空10Pa,氣體流量可控)和高真空?qǐng)鲋码娮影l(fā)射測(cè)試系統(tǒng)(極限真空10-6Pa)。
2.在HF水溶液中對(duì)Ti箔進(jìn)行陽(yáng)極氧化,得到高度有序、分布均勻、垂直取向的TiO2納米管陣列結(jié)構(gòu)。通過(guò)調(diào)節(jié)陽(yáng)極氧化電壓、退火等工藝條件實(shí)現(xiàn)了結(jié)構(gòu)參數(shù)和晶化程度的有效控制,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)其場(chǎng)發(fā)射特性的調(diào)制。結(jié)果表明:在一定范圍內(nèi),氧化電壓的增加有助于場(chǎng)發(fā)射性能的提高。
3. 對(duì)TiO
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