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1、緩沖層材料。3利用電化學(xué)沉積可以制備均勻致密的CuInS2薄膜,薄膜的厚度在2~3“m,薄膜呈p型。研究了溶液中不同銅銦摩爾比、pH值和絡(luò)合劑含量對(duì)沉積薄膜的影響。結(jié)果表明:當(dāng)銅銦摩爾比取I:I,pH值取4,并向溶液中加入20m10025mo阮檸檬酸鈉作為絡(luò)合劑時(shí)得到的薄膜呈現(xiàn)較好的CuInS2相,并且銅銦硫三者含量也最符合化學(xué)計(jì)量比。同時(shí),本章還研究了不同后續(xù)熱處理溫度對(duì)薄膜的影響,結(jié)果表明:隨著熱處理溫度的升高,薄膜呈現(xiàn)一種融化再結(jié)
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